Occasion LAM RESEARCH / NOVELLUS Vector #9244876 à vendre en France

ID: 9244876
Style Vintage: 2003
CVD System Chase PC cart NPP Rack NTU AC Rack (2) Light curtains 2003 vintage.
LAM RESEARCH/NOVELLUS Vector est un équipement de graveur/asher conçu pour être utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs. C'est un système haute performance conçu pour des applications de fabrication de plaquettes. L'unité est conçue pour des lignes de production de volume élevé, fournissant des processus de gravure et de cueillette de plasma précis et fiables. Il dispose d'une station de traitement avancée de substrat monobloc, avec une interface utilisateur ergonomique et est capable de traiter une grande variété de tailles de plaquettes et de gaz de filtration. La machine NOVELLUS Vector utilise un procédé unique de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) pour graver et nettoyer les surfaces des semi-conducteurs. Le procédé CVD utilise une combinaison de gaz, dans un environnement étroitement contrôlé, pour déposer des couches minces de matériau sur la surface de la plaquette. Ce procédé conduit à une interface de meilleure qualité entre la plaquette et le substrat, avec des surfaces plus lisses et moins de défauts. L'outil dispose d'un design modulaire, permettant une évolutivité facile et l'incorporation de nouvelles capacités. Son actif avancé de contrôle du gaz offre une stabilité et un contrôle supérieurs des paramètres du processus tout en minimisant le temps d'arrêt. Ce modèle offre également un équipement de contrôle du chauffage indépendant, qui permet un meilleur contrôle de la stabilité de la température du processus. Le système dispose d'une configuration matérielle polyvalente, avec plusieurs composants optiques pour l'imagerie haute résolution, ainsi que d'un module de dépôt uniforme pour des résultats cohérents. L'unité dispose également d'une gamme de capteurs pour la surveillance et le contrôle du processus, contribuant à maintenir l'efficacité et la qualité du processus. LAM RESEARCH La machine vectorielle présente plusieurs avantages distincts par rapport aux systèmes concurrents, tels que sa grande plage de fonctionnement et son débit élevé. En outre, ses capacités avancées pour le traitement et le dépôt de substrat le rendent idéal pour une variété d'applications de fabrication de semi-conducteurs. Enfin, sa conception flexible permet une intégration facile avec différents types de lignes de production et de procédés.
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