Occasion SEZ / LAM RESEARCH Chambers for SP 323 #293653786 à vendre en France

ID: 293653786
Taille de la plaquette: 12"
12".
SEZ/LAM RESEARCH Chambers for SP 323 est un équipement avancé de gravure/ashing conçu pour des applications d'ingénierie des semi-conducteurs. Il est capable d'améliorer la gravure de surface et le cendrage chimique précis d'un large éventail de matériaux, y compris divers métaux et verre. L'ensemble de mélangeurs et de vannes de gaz réactifs du système permet une livraison rapide et précise des atmosphères de traitement du plasma. Son logiciel de contrôle automatique des processus permet de faire fonctionner l'ensemble de l'unité à partir du propre ordinateur de l'utilisateur. SEZ Chambers pour SP 323 se compose de trois éléments de base : une chambre à vide en acier inoxydable, une machine robotisée de manutention d'échantillons et une source de plasma dédiée. La chambre à vide, située dans le fond de l'outil, est conçue pour manipuler des plaquettes de différentes tailles (jusqu'à 8 pouces de cercle ou carré). Il est construit avec une chambre de processus ellipsoïdale, un bras robot, un chauffage et un bouclier électrostatique. Le bras robot permet un chargement et un positionnement rapides, précis et reproductibles des échantillons dans l'actif. Le chauffage est utilisé pour maintenir des températures uniformes sur toutes les surfaces du modèle. Le bouclier électrostatique est conçu pour réduire les particules générées dans le processus de gravure/cueillette. La source de plasma dédiée de SEZ Chambers améliore le processus de gravure de surface et offre une cendre chimique précise d'un large éventail de matériaux. Il utilise un générateur RF pulsé asynchrone pour produire un champ RF intense entre deux électrodes. Ce champ RF peut être contrôlé avec une fréquence allant de 7.5MHz à 13MHz ou la fréquence de dépôt peut être ajustée manuellement à la demande spécifique du substrat. De plus, la fréquence peut être alignée en fonction de la pression de la chambre de procédé pour garantir des résultats optimaux. L'ensemble de mélangeurs et de vannes de gaz réactifs permet de produire et de délivrer rapidement les atmosphères de traitement plasma exactes requises par le processus de gravure/cendres. L'équipement peut être équipé d'une grande variété de gaz tels que l'oxygène, l'azote, Argon, Hélium, F2, NF3, SF6 et CF4, avec une large gamme de taux de livraison pour diverses tâches de traitement. Le système dispose également d'une unité de purge d'urgence efficace pour assurer la sécurité des utilisateurs et de leurs échantillons. Enfin, LAM RESEARCH Chambers for SP 323 dispose d'un logiciel intuitif et graphique de contrôle automatique des processus. Il est utilisé pour définir et exécuter tous les aspects du processus de gravure/ashing, de la mise en place de recettes au contrôle du temps d'exécution de chaque étape de processus. Cette machine de contrôle assure une sécurité et une répétabilité fiables pour chaque étape du processus. En conclusion, Chambers for SP 323 offre des capacités de gravure/ashing supérieures, est entièrement automatisé et offre une sécurité et une répétabilité de processus fiables. Avec ses fonctionnalités et capacités avancées, il est un outil idéal pour les applications d'ingénierie des semi-conducteurs.
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