Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Chamber for Trias #293650087 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Chamber for Trias est un graveur/asher avec un procédé de gravure humide en trois étapes pour une précision de gravure supérieure. Cet équipement spécialisé est capable de graver rapidement de petits éléments sur des couches minces, avec un minimum de déchets et d'endommagement du substrat. Il est bien adapté pour diverses applications de semi-conducteurs, de MEM et de dispositifs nanométriques où les performances critiques et les dommages minimaux au substrat sont requis. TEL trias etcher/asher est spécifiquement conçu pour traiter plusieurs films minces à la fois, avec gravure de plasma simultanée, gravure humide, et nettoyant humide - ce que TOKYO ELECTRON appelle le « prédictif ». Ce processus garantit que toutes les caractéristiques gravées sont d'origine uniforme et ont des largeurs et des profondeurs constantes. De plus, le procédé breveté en trois étapes permet de surgraver des caractéristiques moins critiques, ce qui permet des économies de coûts et un gaspillage minimal. La chambre comporte elle-même deux générateurs RF qui sont incorporés dans une chambre non divisée avec une fenêtre de gravure, qui peut être ajustée pour graver sélectivement différentes couches. Un système de manutention des plaquettes double face est utilisé pour déplacer les plaquettes à l'intérieur de la chambre de processus, évitant ainsi la contamination. La plaquette est d'abord traitée par une gravure plasma selon une technique de gravure RF, puis transférée à l'étape de gravure humide, et enfin au nettoyage humide. Les avantages de TEL/TOKYO ELECTRON trias etcher/asher s'étendent au-delà de sa vitesse de processus rapide. La chambre minimise la défectivité et les dommages au substrat en raison du processus de gravure du plasma doux. De plus, le temps de contact avec les gravures peut être raccourci et le débit peut être maximisé grâce à la répétabilité du processus sur toutes les tailles de substrat. TEL trias etcher/asher est spécialement conçu pour le traitement avancé des semi-conducteurs, des MEM et des appareils nano et est un équipement de traitement fiable et simple pour toutes les exigences avancées de gravure. Sa capacité à se déplacer, à surgraver et à nettoyer en une seule étape, combinée à son excellente répétabilité et précision en fait un atout précieux dans tout processus de gravure sèche.