Occasion VARIAN 300XP #9390703 à vendre en France

ID: 9390703
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 2004
Implanter, 6" Dual end stations Implant angle: 0°-7° Source type: Freeman ion source BROOKHAVEN X and Y Scan master amplifiers Beam energy probe: 0-200 kV Remote beam monitor on control console Extraction: 0-35 kV Standard 300XP grounded platen Corner cup integration ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER 2012 Source rough pump, 3 Phase ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER 2012 / 2008 B/L Rough pump, Single phase ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER 2012 / 2008 E/S Rough pump ,Single phase ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER 2012 / 2008 Load lock pump, Single phase VARIAN VHS 4 Diffusion source Hi-Vac pump VARIAN B/L Hi-Vac pump with CTI-8 Cryo pump VARIAN E/S Hi-Vac pump with CTI-8 Cryo pump CTI Compressors Acceleration / Deceleration power supply kit: -2 kV AMU: 0-124 Process control terminal: 486 with remote control console XP scan controller dosimetry system SDS control system (4) Gas systems: (3) MFCs HP for boron Fiber optic control interface: High voltage terminal Ground level controls 2004 vintage.
VARIAN 300XP est un implant et un moniteur ionique haute performance conçu pour une utilisation dans l'industrie des semi-conducteurs. Ce dispositif est capable d'implanter des ions dans une grande variété de cibles à des vitesses élevées avec précision. VARIAN 300 XP est une machine compacte et polyvalente qui peut fournir une variété d'applications de processus détaillées à l'aide de logiciels propriétaires de configuration et de manipulation de sources. Le dispositif utilise une conception à trois aimants et un équipement de mouvement à six axes pour une implantation ionique précise et précise. Sa technologie permet de contrôler des largeurs de faisceau accélérées jusqu'à 0,1 mm et permet des tailles de taches de faisceau précises aussi petites que 0,03 mm. De plus, la plage de courant du faisceau s'étend de 0,01 à 50 µA. Il dispose d'un moniteur de courant continu à haute sensibilité avec une plage dynamique de 1-500 pm. Ce dispositif est conçu pour fonctionner dans une large gamme de processus, avec une plage de température variable de 20-400 ° C 300XP dispose d'une source ionique à deux modes qui peut être utilisée pour choisir l'énergie et l'accélération souhaitées du faisceau, et pour contrôler l'angle du faisceau. La source d'ions peut être accordée soit pour des modes résistants à l'oxydation, soit pour des modes de dissolution maximale. Le dispositif comporte un système de chargement automatique qui permet de détecter avec précision la propriété du substrat implanté et d'effectuer les réglages appropriés du fonctionnement et de la collimation du faisceau. 300 XP peut également mesurer une variété de doses et d'énergies. Le dispositif comporte une unité de commande avancée qui permet un contrôle précis de la largeur du faisceau et du courant du faisceau. Sa machine d'acquisition de données peut mesurer la dose et l'énergie simultanément à l'aide d'une source pulsée améliorée. L'outil peut également générer une variété de graphiques et de rapports en temps réel pour l'analyse des rendements et des résultats des processus. VARIAN 300XP est un atout efficace et fiable qui peut fournir une variété de solutions d'implantation pour l'industrie des semi-conducteurs. Sa conception efficace et précise en fait le choix idéal pour diverses applications nécessitant précision et précision. Sa polyvalence, sa gamme de procédés et sa flexibilité le rendent adapté à toutes sortes de procédés dans l'industrie des semi-conducteurs.
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