Occasion ABM ABM/6/350/NUV/DCCD/M #9293272 à vendre en France

ABM ABM/6/350/NUV/DCCD/M est un aligneur de masque ultra-performant pour les procédés avancés de fabrication de semi-conducteurs. Il permet un alignement de contact précis entre un matériau photosensible et un substrat, tel qu'une plaquette, avec une précision et une répétabilité supérieures. Le masque aligneur dispose d'une source de faisceau de 350 nm de longueur d'onde, de résolution nanométrique (nm) et d'un équipement de commande de charge dynamique (DCCD) pour améliorer la stabilité. ABM ABM/6/350/NUV/DCCD/M est capable d'alignement très précis et d'alignement de motifs pour permettre la production de photomasques à haut volume. Ceci est réalisé via un logiciel d'alignement programmé et une manipulation contrôlée de la plaquette par étages motorisés. Ces moteurs sont entraínés par une unité de commande de mouvement de haute précision, capable de positionner avec précision la plaquette. L'unité comprend également un système optique multicouche de 6 pouces (6 po) qui permet une meilleure précision d'imagerie et d'alignement. Ceci est encore renforcé par le faisceau proche ultraviolet de 350 nm, qui a été prouvé pour réduire significativement la contrainte induite par le processus sur la surface du dispositif. Ceci diminue à son tour l'incidence des défauts de substrat et améliore les rendements. En outre, l'aligneur contient une unité de commande de charge dynamique (DCCD) qui améliore encore la précision, la répétabilité et la précision. La machine DCCD fonctionne en réduisant le temps de réglage de position, car elle compense les excitations à base de charge causées par des interférences externes pendant le processus d'alignement. ABM ABM/6/350/NUV/DCCD/M peut être utilisé pour des applications de fabrication complexes et de haute précision. Il est adapté aux environnements de travail à semi-conducteurs difficiles, tels que ceux impliqués dans les tailles de fonctionnalités sub-micron et les procédés MEMS et NEMS avancés. Dans l'ensemble, ABM ABM/6/350/NUV/DCCD/M est un excellent choix pour la production de photomasques semi-conducteurs de haute qualité en raison de ses capacités d'alignement et d'imagerie très précises et répétables. Sa conception robuste et sa précision améliorée améliorent encore le rendement et la réduction des coûts tout en maintenant le plus haut niveau de précision.