Occasion DNK MA-4200 #9358450 à vendre en France

DNK MA-4200
Fabricant
DNK
Modèle
MA-4200
ID: 9358450
Mask aligner.
DNK MA-4200 Mask Aligner est un outil innovant de haute résolution conçu pour générer des processus de photolithographie de précision. Ce dispositif utilise son équipement d'imagerie intégré pour placer avec précision les couches de motifs sur le dessus des substrats. Cette unité est capable d'aligner de manière fiable des motifs et des couches complexes jusqu'à un niveau sous-micron. Grâce à ses fonctions d'alignement sophistiquées, DNK MA4200 Mask Aligner peut facilement adapter les couches à l'emplacement et à la forme souhaités. Le processus d'alignement est effectué à l'aide d'une optique avancée, y compris une optique télécentrique pour l'alignement tous angles, et un large champ de vision pour un placement efficace et précis. En intégrant ces caractéristiques, le dispositif peut couvrir jusqu'à une surface de 400mm x 400mm, offrant des performances et une précision de débit élevées. L'unité comprend également un système de contrôle convivial et intuitif qui est facile à utiliser et permet d'entrer facilement des données à partir des codes à barres et d'autres données générées par l'utilisateur. L'interface comprend plusieurs fonctionnalités telles que la gestion de groupe, un affichage d'image et une page de rapport pour une analyse détaillée. Grâce à sa fonction simple tactile en temps réel, l'unité peut améliorer la stabilité du processus, réduire les coûts de préparation de la surface des plaquettes et réduire le temps de production. La machine intégrée de suivi des plaquettes de MA 4200 Mask Aligner assure un débit de substrat optimal et une productivité améliorée. Le dispositif est également équipé d'un porte-rotation programmable et d'une buse qui améliorent encore ses performances. Son enveloppe sous vide de l'outil de refroidissement cryogénique assure un contrôle précis de la température. Dans l'ensemble, MA-4200 Mask Aligner est un outil fiable, précis et sophistiqué pour générer des processus de photolithographie pour des applications modernes. Avec son outil de contrôle convivial et ses capacités de débit améliorées, l'unité est un excellent choix pour ceux qui recherchent un modèle efficace et précis.
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