Occasion EVG / EV GROUP 620 #9276216 à vendre en France

ID: 9276216
Style Vintage: 2004
Mask aligner 2004 vintage.
EVG/EV GROUP 620 est un équipement d'alignement de masque conçu pour des applications de photolithographie. Il est utilisé dans le processus de création et d'impression de composants microélectroniques, tels que des circuits intégrés. Le système est capable d'imprimer avec des tailles de fonctionnalités aussi petites que 10nm. L'unité se compose de deux composantes principales ; l'Aligner et le processeur de masque. L'Aligner dispose d'un grand étage motorisé X-Y et d'un projecteur pour projeter des motifs sur des substrats revêtus de photorésist tels que des plaquettes de silicium. Le processeur de masque comprend un bras robotisé 6 axes rotatif, une machine de distribution de gaz, un moniteur de gaz de procédé, et un outil de stockage et de chargement de masque pour contenir jusqu'à 25 masques différents et 5 substrats. La précision d'alignement de l'actif est élevée, avec une erreur d'alignement moyenne de 1,2 um ou moins, et un modèle de filtre optique pour assurer une exposition uniforme. L'Aligner est également équipé d'un équipement sous vide intégré pour une précision accrue lors de l'alignement du masque, ce qui contribue également à réduire la sensibilité à l'air. Le système est conçu pour être convivial, avec un logiciel de contrôle qui permet aux utilisateurs de concevoir, modifier ou créer facilement des masques pour permettre l'impression précise des motifs des deux côtés du substrat. Il comprend également une unité sous vide qui permet un nettoyage et une cuisson plus efficaces du substrat. EVG 620 a une large gamme d'applications, de l'impression de base de motifs à l'impression 3D de micro composants, ainsi que la lithographie thermique et de faisceau d'électrons pour la fabrication de circuits avancés. Sa grande précision, sa flexibilité et son logiciel de contrôle convivial le rendent adapté aux projets de recherche et d'enseignement, ainsi qu'au prototypage industriel. Sa structure permet également une intégration facile avec d'autres équipements, tels que les récipients sous vide pour un meilleur contrôle des processus.
Il n'y a pas encore de critiques