Occasion JAPAN SCIENCE ENGINEERING MA-4201 #293626847 à vendre en France

JAPAN SCIENCE ENGINEERING MA-4201 Mask Aligner, également connu sous le nom de « stepper », est un type d'équipement de photolithographie qui est utilisé pour transférer des motifs d'un photomasque à un substrat. Cet équipement est typiquement utilisé dans la fabrication de circuits intégrés, d'écrans LCD, de têtes magnétiques à couches minces, d'instruments médicaux et autres dispositifs. MA-4201 fournit un alignement précis des masques et des substrats à l'aide d'optiques sophistiquées, de lentilles et de réglages de position fins. JAPAN SCIENCE ENGINEERING MA-4201 est conçu pour une précision de haute précision, avec une capacité d'alignement de 0,1 micron. Il utilise un système avancé d'auto-alignement, le substrat étant placé sur un étage qui est déplacé à l'aide de moteurs de précision, permettant des réglages de position fins. Le système d'auto-alignement permet la reconnaissance en temps réel des coordonnées du substrat par rapport au photomasque utilisé. De plus, MA-4201 est capable d'enregistrer des motifs d'exposition très détaillés de couches et d'éléments individuels dans un plan de circuit. JAPAN SCIENCE ENGINEERING MA-4201 est équipé d'un système optique sophistiqué, qui comprend un microscope haut de gamme et une source de lumière UV. Ceci est utilisé pour aligner avec précision le photomasque avec le substrat, et peut être ajusté en fonction de l'application. Sa précision est encore améliorée par l'utilisation d'algorithmes logiciels sophistiqués, offrant une meilleure focalisation et précision des motifs. MA-4201 peut être utilisé avec une gamme de photomasques et de substrats, permettant un alignement de haute précision dans une variété de programmes. En outre, JAPAN SCIENCE ENGINEERING MA-4201 présente une faible consommation électrique, avec un faible taux d'émission de chaleur. Ceci le rend apte à une utilisation prolongée sans endommagement thermique du substrat. Ceci est particulièrement important lorsque vous travaillez avec des processus sensibles, tels que des têtes magnétiques à couches minces ou des écrans LCD. Dans l'ensemble, MA-4201 Mask Aligner est un équipement très sophistiqué pour la photolithographie. Il offre des capacités d'alignement très précises, avec une précision de positionnement fine de 0,1 micron. Son optique et son logiciel sophistiqués permettent la reconnaissance en temps réel des coordonnées du substrat par rapport au photomasque. En outre, sa faible consommation d'énergie et son taux d'émission thermique le rendent apte à une utilisation prolongée, contribuant à prévenir les dommages thermiques.