Occasion AND ASP-2000 #9373109 à vendre en France

AND ASP-2000
Fabricant
AND
Modèle
ASP-2000
ID: 9373109
Taille de la plaquette: 2"
(2) Coater / (3) Developer systems, 2".
ET ASP-2000 Photoresist Equipment est une solution automatisée ET contrôlée par processus pour reproduire la production de produits optoélectroniques avec une grande précision ET vitesse. Il est conçu pour réaliser des motifs de lignes fines ET sur des substrats semi-conducteurs, sans avoir besoin de techniques manuelles telles que la lithographie. ASP-2000 système fonctionne en exposant un film de photorésist à la lumière dirigée et contrôlée afin de développer le motif désiré. ET ASP-2000 dispose d'une multitude de technologies de pointe pour assurer des résultats fiables ET précis. Il soutient de multiples technologies d'exposition, y compris l'exposition optique, l'exposition aux inondations, l'exposition à l'infini ET l'exposition gérée par recette. En outre, il est également équipé de plusieurs systèmes de commande, tels qu'une unité de vide, une machine de positionnement, un contrôleur, ET un outil de surveillance de la plaque faciale en temps réel. ASP-2000 asset utilise une opération clé en main, ce qui signifie que l'utilisateur n'a besoin que de sélectionner les paramètres désirés pour commencer le processus. Il est livré avec une interface utilisateur facile à utiliser ET une bibliothèque complète de recettes préprogrammées, permettant un démarrage rapide ET. De plus, le modèle offre également un autodiagnostic pour une performance optimale. ET ASP-2000 peut être utilisé pour diverses applications optoélectroniques, telles que la réplication de motifs haute résolution, la fabrication de dispositifs, l'enregistrement de plaquettes, la fabrication de guides d'ondes, ET la conception de masques optiques. En outre, il offre une compatibilité supérieure avec une large gamme de matériaux photorésistants, y compris AZ, Shipley, EKC, Rohm Haas, etc. ASP-2000 l'équipement dispose également d'une technologie avancée de contrôle des processus. Cela inclut de multiples paramètres de contrôle de processus, tels que le temps d'exposition le plus court, le temps d'exposition le plus long, la retenue de pointe, les processus de post-exposition ET d'éclatement, qui sont tous optimisés pour garantir des résultats précis. Avec ses capacités de contrôle de processus, le système peut également accueillir différents types de films photorésistants, ET peut même détecter les éventuelles erreurs de processus, fournissant ainsi un fonctionnement fiable et reproductible. Dans l'ensemble, ET ASP-2000 Photoresist Unit est une solution automatisée fiable ET précise pour la réplication précise des dispositifs optoélectroniques. Il est conçu pour se conformer aux technologies de l'industrie 4.0, tout en tirant parti de ses propres technologies de pointe pour garantir des résultats optimaux.
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