Occasion DNS / DAINIPPON SK-2000 #9277248 à vendre en France

ID: 9277248
Taille de la plaquette: 8"
(4) Coater / (4) Developer systems, 8" Resist temperature system Resist Pump Wafer shape: SNNF Wafer cassette: 8" PP MIRAIAL (2) Process blocks (2) Coater heads (2) Barc coater heads (4) Develop heads (2) Adhesion chambers (10) Cooling plates (12) Rapid hot plates (3) Hot plates (1) EEW (1) EEFT (1) IFB (1) Source bottle cabinet (1) Chemical box (HMDS/Solvent/NMDW) (1) Controller cabinet (1) Power box (1) Handling unit controller (1) Carrier station (6) Nozzle Cup: Top cup material: PP Middle cup material: PP Bottom cup material: PPS Spin chuck: Material: Peek Back rinse flow meter with flow sensor Mist nozzle flow meter with flow sensor Edge cleaner flow meter with sensor With VPS+ option Solvent solution supply Drain central Barc Nozzle slit scan nozzle Develop solution supply Central supply Developer Cup PVC Spin chuck PEEK Develop nozzle flow meter with sensor Develop nozzle wash meter with sensor Rinse nozzle flow meter with sensor Back rinse flow meter with sensor Develop temperature System Control for 1 line x 2 Drain central Adhesion Method vapor prime by N2 bubbling Hot plate 60-150 deg by 0.1 deg pitch HMDS solution supply central supply Hot plate Method proximity bake with ceramic ball Hot plate 50-180 deg by 0.1 deg pitch Cooling plate Rapid hot plate.
DNS/DAINIPPON SK-2000 est un équipement de photorésistance numérique qui utilise des lasers et un nouveau système optique pour améliorer la précision des motifs d'exposition et permet de s'assurer que les caractéristiques peuvent être reproduites avec précision sur des substrats de dimensions aussi petites que quelques centaines de nanomètres. DNS SK2000 utilise un faisceau laser pulsé qui est focalisé à une tache de 5 um sur le substrat et est monté sur un scanner galvanomètre x-y. La largeur d'impulsion est programmable de 2 à 12ns et l'énergie programmable de 50mJ à 1J. Le laser est monté sur un scanner vertical qui est relié à un scanner x-y galvanomètre de précision. Le laser et le scanner sont synchronisés pour créer des motifs d'exposition précis sur le substrat. Le motif d'exposition est alors défini par l'interface utilisateur, ce qui permet de dessiner des motifs d'exposition sur le substrat. DAINIPPON SK 2000 utilise également une unité optique exclusive qui combine le motif d'exposition avec l'épaisseur du film du substrat. Cela permet des modèles d'exposition précis sur les substrats avec des tailles de fonctionnalités aussi petites que quelques centaines de nanomètres. De plus, les motifs d'exposition peuvent être optimisés pour un substrat spécifique, ce qui permet une plus grande précision et précision. En plus de ses systèmes laser et optique, DNS/DAINIPPON SK 2000 est équipé d'un régulateur de température qui permet d'utiliser des substrats sensibles à la température dans le processus d'exposition. Cela permet une plus grande résistivité et tolérance thermique du matériau exposé. En plus de sa précision et de sa précision, DNS SK-2000 offre une large gamme de modèles d'exposition qui peuvent être utilisés. Il est conçu pour être utilisé dans une variété de procédés, y compris la photolithographie, les techniques de dépôt telles que le dépôt chimique en phase vapeur et la gravure à sec. Son large éventail de profils d'exposition permet d'améliorer le débit et de raccourcir les délais de traitement. DNS SK 2000 est une machine de photorésistance avancée. Il utilise plusieurs caractéristiques uniques dont un laser pulsé, un outil optique avancé, un scanner de précision, et une unité de contrôle de la température. Ces caractéristiques permettent la reproduction précise et précise des motifs d'exposition sur des substrats de tailles aussi petites que quelques centaines de nanomètres. En outre, la large gamme de modèles d'exposition qu'il offre permet un débit plus rapide et des délais de traitement plus courts. Cela fait de DNS/DAINIPPON SK2000 un choix idéal pour une large gamme d'applications en photolithographie, techniques de dépôt et gravure sèche.
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