Occasion DNS / DAINIPPON SK-2000 #9277248 à vendre en France
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ID: 9277248
Taille de la plaquette: 8"
(4) Coater / (4) Developer systems, 8"
Resist temperature system
Resist Pump
Wafer shape: SNNF
Wafer cassette: 8" PP MIRAIAL
(2) Process blocks
(2) Coater heads
(2) Barc coater heads
(4) Develop heads
(2) Adhesion chambers
(10) Cooling plates
(12) Rapid hot plates
(3) Hot plates
(1) EEW
(1) EEFT
(1) IFB
(1) Source bottle cabinet
(1) Chemical box (HMDS/Solvent/NMDW)
(1) Controller cabinet
(1) Power box
(1) Handling unit controller
(1) Carrier station
(6) Nozzle
Cup:
Top cup material: PP
Middle cup material: PP
Bottom cup material: PPS
Spin chuck:
Material: Peek
Back rinse flow meter with flow sensor
Mist nozzle flow meter with flow sensor
Edge cleaner flow meter with sensor
With VPS+ option
Solvent solution supply
Drain central
Barc
Nozzle slit scan nozzle
Develop solution supply Central supply
Developer Cup PVC
Spin chuck PEEK
Develop nozzle flow meter with sensor
Develop nozzle wash meter with sensor
Rinse nozzle flow meter with sensor
Back rinse flow meter with sensor
Develop temperature System
Control for 1 line x 2
Drain central
Adhesion
Method vapor prime by N2 bubbling
Hot plate 60-150 deg by 0.1 deg pitch
HMDS solution supply central supply
Hot plate
Method proximity bake with ceramic ball
Hot plate 50-180 deg by 0.1 deg pitch
Cooling plate
Rapid hot plate.
DNS/DAINIPPON SK-2000 est un équipement de photorésistance numérique qui utilise des lasers et un nouveau système optique pour améliorer la précision des motifs d'exposition et permet de s'assurer que les caractéristiques peuvent être reproduites avec précision sur des substrats de dimensions aussi petites que quelques centaines de nanomètres. DNS SK2000 utilise un faisceau laser pulsé qui est focalisé à une tache de 5 um sur le substrat et est monté sur un scanner galvanomètre x-y. La largeur d'impulsion est programmable de 2 à 12ns et l'énergie programmable de 50mJ à 1J. Le laser est monté sur un scanner vertical qui est relié à un scanner x-y galvanomètre de précision. Le laser et le scanner sont synchronisés pour créer des motifs d'exposition précis sur le substrat. Le motif d'exposition est alors défini par l'interface utilisateur, ce qui permet de dessiner des motifs d'exposition sur le substrat. DAINIPPON SK 2000 utilise également une unité optique exclusive qui combine le motif d'exposition avec l'épaisseur du film du substrat. Cela permet des modèles d'exposition précis sur les substrats avec des tailles de fonctionnalités aussi petites que quelques centaines de nanomètres. De plus, les motifs d'exposition peuvent être optimisés pour un substrat spécifique, ce qui permet une plus grande précision et précision. En plus de ses systèmes laser et optique, DNS/DAINIPPON SK 2000 est équipé d'un régulateur de température qui permet d'utiliser des substrats sensibles à la température dans le processus d'exposition. Cela permet une plus grande résistivité et tolérance thermique du matériau exposé. En plus de sa précision et de sa précision, DNS SK-2000 offre une large gamme de modèles d'exposition qui peuvent être utilisés. Il est conçu pour être utilisé dans une variété de procédés, y compris la photolithographie, les techniques de dépôt telles que le dépôt chimique en phase vapeur et la gravure à sec. Son large éventail de profils d'exposition permet d'améliorer le débit et de raccourcir les délais de traitement. DNS SK 2000 est une machine de photorésistance avancée. Il utilise plusieurs caractéristiques uniques dont un laser pulsé, un outil optique avancé, un scanner de précision, et une unité de contrôle de la température. Ces caractéristiques permettent la reproduction précise et précise des motifs d'exposition sur des substrats de tailles aussi petites que quelques centaines de nanomètres. En outre, la large gamme de modèles d'exposition qu'il offre permet un débit plus rapide et des délais de traitement plus courts. Cela fait de DNS/DAINIPPON SK2000 un choix idéal pour une large gamme d'applications en photolithographie, techniques de dépôt et gravure sèche.
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