Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON / DESPATCH CT200 #9355259 à vendre en France

FSI / TEL / TOKYO ELECTRON / DESPATCH CT200
ID: 9355259
System.
FSI/TEL/TOKYO ELECTRON/DESPATCH CT200 est un appareil photorésistant de haute performance et de précision. Ce système est conçu pour répondre aux exigences avancées de photolithographie des différents marchés des semi-conducteurs et fournit une plate-forme de traitement chimique d'ultra-précision pour la fabrication même des composants semi-conducteurs les plus sophistiqués. FSI CT200 utilise une variété de technologies exclusives pour générer des modèles de résines photosensibles à vide ou à spin-on. Cette unité combine une méthode d'écriture directe sans contact avec une technologie de micro-fabrication, permettant à l'utilisateur de créer des fonctionnalités complexes et extrêmement détaillées, même au niveau du nanomètre. La machine dispose d'un outil de contrôle robotique très sophistiqué, qui guide tous les composants du processus, ainsi que d'une variété de paramètres logiciels qui peuvent être adaptés à différentes applications. TEL CT200 utilise un scanner d'image haute résolution et un atout de mouvement de motif haute vitesse pour permettre une écriture de motif ultra-précise sur les résistances à une résolution maximale de 10um. Les paramètres de focalisation et d'exposition programmables par l'utilisateur peuvent être adaptés aux exigences spécifiques de chaque application. Le modèle est également capable d'imprimer des motifs continus ou segmentés. CT200 intègre un cadre de vide pour pré-traiter les substrats et gère les processus de placement et d'alignement. Il peut traiter jusqu'à 4 "de substrats à la fois avec une profondeur optique de 1,5. L'équipement permet un temps d'exposition standard de 20 millisecondes et est capable d'imprimer jusqu'à 2 000 images par heure. DESPATCH CT200 est conçu pour répondre aux exigences strictes d'une variété de procédés de production de semi-conducteurs. Les performances supérieures et le contrôle précis font de ce système un excellent choix pour des applications de photolithographie complexes.
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