Occasion KARL SUSS / MICROTEC ACS 300+ #9144010 à vendre en France
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ID: 9144010
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2005
(2) Coater / (2) Developer system, 12"
Inline
WL and RL: Other WL port number
Operating system: Windows
Automation online component: SECE
Wafer type: Notch at 6 o'clock
No SMIF
Missing parts:
Hard Disk Drive (HDD)
(3) CYBOR PR Dispense pumps
Developer module spin motor
(3) Chemical leak sensors
2005 vintage.
L'équipement de photorésistance KARL SUSS/MICROTEC ACS 300 + est une machine de précision utilisée pour la photolithographie. Il est équipé d'un moteur micro-pas de pointe et permet l'exposition précise et répétable de la résine photosensible. Le système utilise un fonctionnement manuel ou contrôlé par ordinateur, ce qui le rend idéal pour les applications de production et de recherche. L'unité photorésistante MICROTEC ACS 300 + dispose d'une grande surface de travail réglable pouvant supporter des substrats jusqu'à 200 x 400 mm. La machine est équipée d'un écran LCD convivial, qui comprend toutes les informations pertinentes sur le processus, telles que la taille du faisceau, le temps, et les paramètres de résistance. Le diamètre du faisceau est réglable de 6 µm à 650 µm, et un port de zoom permet de créer une variété de motifs de résistance différents. La taille du faisceau peut être ajustée rapidement et avec précision pour un alignement de précision. KARL SUSS ACS 300 + utilise la technologie brevetée Scott Hardman de réflecteur en verre. Cela permet une exposition uniforme à travers le substrat avec une distorsion minimale. L'outil est équipé d'un réflecteur UV-A et d'un collimateur réglable Shadow Hawk. Cela rend l'actif extrêmement précis et fiable pendant le processus d'exposition. Le modèle est également équipé d'un éclairage de contrôle en cours de fabrication (IPC), qui permet de corriger l'exposition après la formation du modèle principal. Une large gamme de photomasques, de phototools et de matériaux résistants peut être utilisée avec l'équipement ACS 300 +. Le système est conçu pour fonctionner avec des résines standard de faible viscosité telles que les résines HSQ de type AP (hexaméthyldisilazane), AR (allyloxyresorcinol) et CP (cyanoacrylates). Elle est également compatible avec une variété de photorésistes à haute viscosité tels que les photorésistes de type PMMA (polyméthacrylate de méthyle), AZ (aza-bisphénol) et MX (mercaptoxylène). Globalement, KARL SUSS/MICROTEC ACS 300 + photoresist unit est une machine polyvalente avec une large gamme d'applications. Il peut facilement manipuler une variété de photomasques et résister aux matériaux, ce qui le rend adapté à la production et à la recherche. Son excellente polyvalence, son fonctionnement convivial et ses capacités de haute précision en font un excellent choix pour tout projet de photolithographie.
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