Occasion KARL SUSS / MICROTEC Gamma #9299570 à vendre en France
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KARL SUSS/MICROTEC Gamma est un équipement de photorésistance conçu pour le traitement de substrats d'un diamètre allant jusqu'à 250 mm. Le système se compose d'un aligneur photomasque et d'une piste. L'aligneur est conçu pour l'alignement haute résolution et l'exposition du masque et des substrats jusqu'à 250mm de taille. La piste contient un manipulateur de liquide et un four, respectivement pour le revêtement photorésist et la cuisson. L'unité dispose d'un moteur pas à pas et d'une caméra, ce qui permet de contrôler automatiquement le fonctionnement de l'aligneur et l'enregistrement de la précision d'alignement, respectivement. La machine MICROTEC Gamma est un procédé de lithographie sèche qui se divise en deux étapes ; masquage et imagerie, et revêtement photorésist. L'étape de masquage et d'imagerie implique l'utilisation d'une source lumineuse qui est dirigée sur le substrat, à travers un masque. Il en résulte le substrat exposé modelé. L'étape de revêtement photorésist implique l'utilisation d'un manipulateur liquide pour revêtir le substrat de photorésist. Le gestionnaire de liquide dispense de la résine photosensible sur le substrat, au moyen d'une buse. Ensuite, le four est utilisé pour traiter thermiquement le substrat enduit, afin d'activer la solution de résine photosensible. L'outil KARL SUSS Gamma est en outre équipé d'un mandrin à vide qui permet le contact sous vide du masque sur la surface du substrat. Ceci permet un alignement précis du masque sur la surface du substrat, et crée également un contact uniforme entre le masque et le substrat. En outre, l'actif Gamma offre un contrôle moteur pas à pas et une table de contrôle moteur qui augmente les performances du modèle. Le moteur pas à pas permet un contrôle précis de la zone d'exposition, tandis que la table de contrôle moteur permet de contrôler la précision d'alignement par rapport à la zone d'exposition. L'équipement KARL SUSS/MICROTEC Gamma dispose en outre d'un enregistreur graphique pour une cartographie rapide et précise des résultats totaux de la lithographie. Dans l'ensemble, MICROTEC Gamma est un système de photorésistance très efficace conçu pour répondre aux besoins du processus de photolithographie moderne. L'unité intègre des caractéristiques avancées telles qu'un moteur pas à pas, un mandrin à vide et une table de repérage moteur, qui permettent un alignement fiable et précis du masque sur la surface du substrat. Ceci assure un contact uniforme entre le masque et le substrat, permettant des résultats de lithographie précis. De plus, la machine offre un enregistreur graphique, ce qui facilite la cartographie des résultats de la lithographie, permettant une documentation de processus rapide et précise.
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