Occasion KARL SUSS / MICROTEC RC 16 #9383648 à vendre en France
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KARL SUSS/MICROTEC RC 16 est un équipement de photorésistance de pointe connu pour son utilisation dans une variété de procédés de fabrication de semi-conducteurs et de MEMS. Le système utilise une « résine » à base de silicium polycristallin, qui est exposée à la lumière ou au plasma, ce qui provoque des réactions chimiques à l'intérieur de la résine qui forment des motifs dans la couche de résine. MICROTEC RC 16 fonctionne en exposant la couche de résistance à la lumière ou au plasma à travers une machine de projection spécialisée. La lumière ouvre la structure moléculaire de la résine permettant des réactions chimiques dans la couche de résine. En contrôlant l'intensité lumineuse ou la durée de l'exposition, l'utilisateur peut déterminer le motif produit dans la résine. Pendant la phase de préparation, la résine est refroidie à une température plus basse puis appliquée sur le matériau du substrat. Après préparation du substrat, la résine est exposée à la lumière ou au plasma pour initier un processus de polymérisation chimique. La vitesse et l'ampleur de la polymérisation dépendent du type d'exposition, ainsi que de la durée et de l'intensité de l'exposition. Le processus d'exposition entraîne la formation d'un motif d'imagerie dans le matériau de résistance qui servira de base à toute microfabrication ultérieure. Au cours de la phase de développement, l'image est développée par élimination du matériau non exposé par lavage ou gravure. Une fois ce procédé terminé, le substrat est prêt pour une nouvelle microfabrication. KARL SUSS RC 16 est capable de produire des lignes et des espaces microns et sub-microns avec des images de qualité optique et haute résolution. L'outil est également capable d'atteindre un débit élevé de substrats et une grande précision des expositions. L'actif est suffisamment polyvalent pour être utilisé à la fois pour la lithographie de sous-microns et les processus de gravure profonde. Grâce à ses caractéristiques de pointe, le RC 16 est le modèle photorésist idéal pour la fabrication avancée de dispositifs semi-conducteurs.
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