Occasion KARL SUSS / MICROTEC RC 8 MS2 #9262863 à vendre en France

ID: 9262863
Photoresist spin coater Power supply: 110 V, 50 Hz.
KARL SUSS/MICROTEC RC 8 MS2 est un équipement de photorésistance conçu pour les procédés lithographiques avancés. Il est capable de développer des couches de photorésist jusqu'à 20 μ m d'épaisseur avec un temps de développement rapide de seulement 60 secondes. Le système est équipé d'un mandrin à vide chauffé et d'étages d'exposition automatisés, permettant un contrôle précis de l'épaisseur de la résistance et de la précision des dimensions critiques. L'unité est conçue pour la fiabilité pour atteindre des photopatterns de la plus haute qualité avec une résolution bien au-delà de celle des imprimantes à contact standard. Il est très compatible avec une large gamme de photorésistes ; la machine de réglage de focalisation et les étages de positionnement automatique sur MICROTEC RC 8 MS2 assurent une répétition précise. L'outil comprend un spinner de chargement supérieur pour le spin-coating, et un ascenseur motorisé qui maintient une épaisseur de résistance constante. KARL SUSS RC 8 MS2 dispose également d'un logiciel de contrôle avancé et d'une interface utilisateur optimisée. Toutes ces fonctionnalités, ainsi que la génération de rapports dédiés, l'intégration aux SOP et d'autres logiciels de lithographie avancés, font de cet atout une solution puissante et fiable pour ceux qui ont besoin de la plus haute performance et qualité. RC 8 MS2 utilise la technologie d'interférence électromagnétique (EMI) pour contrôler avec précision le processus de dépôt. Cette technologie contrôle efficacement le flux d'électrons à haute fréquence et évite ainsi que la couche de résistance ne soit endommagée ou détruite au cours du processus de développement. Le modèle est également équipé d'un logiciel de pointe qui permet la modélisation prédictive des profils de résistance, assurant ainsi la précision et la répétabilité des photopatterns. KARL SUSS/MICROTEC RC 8 MS2 est compatible à la fois avec les photorésistes liquides et les photorésistes à film épais, et convient pour la production de micro-structuration ablation laser et lithographie optique. Il est parfait pour les applications dans le développement d'appareils micro-électroniques, MEM, microlentilles, nanofils, et plus encore. Le MICROTEC RC 8 MS2 comprend un grand mandrin sous vide qui peut accueillir des photorésistants jusqu'à 300 millimètres et offre une large plage de température de 25C ° à 250C °. L'équipement comprend également un module de chimie de la ruche avec jusqu'à quatre stations. Enfin, le système dispose d'une interface tactile et d'un contrôle environnemental automatisé, y compris les réglages du cycle de nettoyage. En résumé, KARL SUSS RC 8 MS2 est une unité photorésiste fiable et performante capable de produire des photopatterns très précis et complexes avec la plus haute résolution. Il offre un large éventail de fonctionnalités, y compris un logiciel de contrôle avancé, une technologie avancée de rayonnement EM, des étapes d'exposition automatisées, des capacités de modélisation prédictive et un contrôle environnemental automatisé, ce qui en fait la solution parfaite pour ceux qui exigent des photopatterns de la plus haute qualité et des profils de résistance.
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