Occasion VERTEQ 1600-55M #9253113 à vendre en France

Fabricant
VERTEQ
Modèle
1600-55M
ID: 9253113
Spin Rinse Dryers (SRD) 1995-1996 vintage.
VERTEQ 1600-55M Photoresist Equipment est une plateforme modulaire conçue pour fournir une solution d'imagerie optimisée pour les applications photorésistes. Ce système répond aux besoins d'imagerie de haute précision d'une variété de technologies photorésistantes. Il est configuré pour utiliser une large gamme de photorésists, avec des transports simples ou doubles, permettant le traitement de substrats jusqu'à 200 mm de taille. L'unité offre une capacité de débit élevée, une excellente qualité d'image, et peut être facilement intégrée dans une grande variété de flux de processus. 1600-55M est configurable avec des composants d'imagerie optiques, réfléchissants et transparents. L'imagerie optique est réalisée par trois sous-systèmes optoélectroniques à balayage. L'optoélectronique supérieur est le scanner à faisceau unique, tandis que les deux optoélectroniques latéraux sont des scanners multi-faisceaux. L'optoélectronique de balayage utilise l'optique haute puissance, ce qui donne des capacités d'imagerie haute résolution avec une fonction d'étalement de ligne basse. Un amplificateur d'image optique haute résolution est également intégré dans l'outil pour les fonctionnalités de petite surface. Le sous-système d'imagerie réfléchissante est composé d'optique de grossissement interférométrique laser (LIM), qui permet l'imagerie des surfaces planes et non planaires. L'optoélectronique latérale, ainsi que l'optique LIM, fournissent l'imagerie de structures étagées avec une grande précision et débit. Pendant ce temps, le sous-système d'imagerie transparente permet de contacter l'imagerie avec l'optique à rayons X, fournissant d'excellents résultats d'imagerie même pour les structures 3D. En outre, VERTEQ 1600-55M est équipé d'une large gamme de paramètres d'imagerie, permettant une imagerie optimale pour une variété d'applications photorésistantes. Ces paramètres comprennent un alignement très précis, l'optimisation du temps d'exposition, le calcul de la dose et la compensation optique. Une interface utilisateur intuitive simplifie la mise en place de l'actif et la sélection des paramètres, garantissant un processus d'imagerie efficace et optimal. En outre, le modèle est capable de traiter plusieurs types de photorésist avec de multiples processus, ce qui en fait une solution idéale pour diverses applications de photorésist. Dans l'ensemble, 1600-55M Photoresist Equipment offre des capacités d'imagerie supérieures et une capacité de débit élevée. Avec une excellente qualité d'image, des paramètres d'imagerie hautement configurables et une intégration flexible avec divers flux de processus, le système est une solution idéale pour une variété de technologies de photorésistance.
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