Occasion VERTEQ 1600 #9280736 à vendre en France

VERTEQ 1600 est un équipement de photorésistance conçu pour permettre le développement de motifs de photolithographie complexes et de haute précision pour les circuits électroniques, optoélectroniques et autres MEMS (micro-électro-mécaniques). Ce système se compose d'une caméra haute résolution, d'une source lumineuse et d'un outil de lithographie. L'appareil photo 1600 est capable d'imager jusqu'à 16 mégapixels en 12 bits par couleur (3 canaux) et est équipé d'une unité d'éclairage interne. La caméra utilise une machine double-masque-alignement qui utilise un motif de grille pour aligner avec précision les cadres de motifs avec une précision nominale de +/- 5 um. Cette précision permet une imagerie très détaillée et à faible perte, idéale pour les applications MEMS et optoélectroniques. La source lumineuse de VERTEQ 1600 est une lampe à arc court de 400 watts qui fournit un éclairage uniforme et de haute intensité. L'outil intègre également un outil de filtrage de la lumière double pour permettre la flexibilité des temps d'exposition et de la gamme spectrale. Cela permet à l'utilisateur d'ajuster les temps d'éclairage et d'exposition en fonction des exigences spécifiques et de l'application. L'outil de lithographie de 1600 facilite l'exposition précise des photomasques. Il utilise un moteur pas à pas intégré et des contrôleurs indépendants pour faciliter des mouvements tridimensionnels complets dans toutes les directions, ce qui permet d'élaborer des caractéristiques reproductibles de haute précision à n'importe quel angle avec une précision de positionnement de +/- 7,5 um. L'outil de lithographie comprend également un modèle de focalisation pour assurer la meilleure fidélité possible de l'exposition. VERTEQ 1600 est un équipement de photorésistance avancé, conçu pour permettre le développement de motifs complexes pour circuits électroniques et optoélectroniques. Sa caméra haute résolution, son système d'alignement double masque et sa lampe à arc court de 400 watts, en plus de son outil de lithographie intégré, fournissent une exposition de précision permettant une imagerie haute précision et faible perte idéale pour les applications MEMS et optoélectroniques.