Occasion VERTEQ 2600 #9144776 à vendre en France

VERTEQ 2600
Fabricant
VERTEQ
Modèle
2600
ID: 9144776
Taille de la plaquette: 6"
Megasonic cleaner, 6".
VERTEQ 2600 est un équipement photorésist de nouvelle génération de VERTEQ Technologies. Grâce à une technique d'imagerie avancée, le système est capable de produire des motifs photorésistants de haute précision ou de haut volume avec une forme, une forme ou un emplacement précis, peu importe le substrat. Il est capable de produire des motifs photorésistants extrêmement haute définition avec des tailles de caractéristiques micro-dimensionnées et la précision. 2600 photorésist utilise une machine d'imagerie laser guidée avec précision par un microscope optique numérique. Le faisceau laser est dirigé secteur par secteur vers le photomasque, exposant sélectivement certaines zones du photomasque et créant un motif dans la photorésist. La résine photosensible est ensuite soumise à un processus de développement pour éliminer les zones exposées, qui peut être utilisé comme base pour le développement d'autres caractéristiques du dispositif. VERTEQ 2600 peut être utilisé pour créer des motifs précis sur des couches photorésistantes extrêmement minces, telles que celles requises pour la microélectronique et l'application MEMS. 2600 outil utilise également des logiciels d'imagerie très avancés pour créer des photomasques à partir de conceptions complexes définies par l'utilisateur. Le logiciel est capable de reconnaître automatiquement les caractéristiques d'une conception et de générer le motif correspondant requis pour la photomasque avec une résolution et une précision extrêmes. Le photomasque est ensuite transféré sur le substrat de coulée de photorésist, qui est placé sur l'étage de focalisation VERTEQ, l'actif laser servant alors à l'image couche par couche du photomasque. En utilisant VERTEQ 2600, les utilisateurs peuvent bénéficier d'images très précises et d'un meilleur contrôle des processus pour les motifs photorésistants. Le modèle photorésist 2600 est idéal pour le photomasking, le transfert de motifs, la photolithographie, la planétisation et d'autres applications électroniques avancées. Son ensemble complet de fonctionnalités et ses capacités d'imagerie avancées en font le choix idéal pour les fabricants à la recherche de solutions photorésistantes de précision. L'équipement est fiable, facile à utiliser et économique, ce qui en fait un excellent choix pour toute application qui nécessite des motifs photorésistants précis dans des volumes élevés.
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