Occasion ASML 4022.436.7550 #293657147 à vendre en France

Fabricant
ASML
Modèle
4022.436.7550
ID: 293657147
Rack PCB.
ASML 4022.436.7550 est un pas de plaquette, un équipement d'imagerie optique qui est utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs pour la photolithographie - un processus de transfert de motifs à la surface d'un matériau. C'est l'un des systèmes de lithographie avancés ASML, qui utilise la courte longueur d'onde, la lumière ultraviolette profonde pour l'imagerie de très fines structures électroniques et mécaniques sur la surface d'une plaquette. ASML 4022.436.7550 utilise un système de projection à forte ouverture numérique (NA) capable de projeter des images à plus haute résolution sur la plaquette. L'unité est composée de plusieurs composants différents. Les composants clés sont le porte-plaquettes, la source laser, la lentille de focalisation, le masque (aussi appelé réticule) et la lentille de projection. Le processus commence par la mise en place de la plaquette sur le porte-plaquette. La source laser éclaire alors le masque avec une lumière ultraviolette profonde, qui contient les motifs exacts gravés sur la plaquette et aide à guider le marchepied dans la bonne position. La lentille de focalisation focalise alors la lumière dirigée du masque sur la plaquette. La lentille de projection est ensuite ajustée pour agrandir le motif et créer une image plus détaillée. ASML 4022.436.7550 est capable de projeter à une résolution de 0,2 micron. Il est équipé d'un certain nombre de fonctionnalités avancées, telles qu'une machine à filtre intégrée, un outil d'alignement programmable et des capteurs de portée portante. Le logiciel de l'actif est très polyvalent, et fournit aux utilisateurs un contrôle complet de l'exposition. De plus, le modèle est capable de fonctionner en mode entièrement automatisé, ses processus étant contrôlés par un équipement d'automatisation piloté par logiciel. De plus, l'ASML 4022.436.7550 est bien adapté au prototypage et à la fabrication. Ses vitesses d'exposition exceptionnellement rapides de 1 à 2 secondes par couche permettent une production plus rapide de prototypes, tandis que son soutien aux techniques de fabrication telles que la matrice focus-exposition permet aux utilisateurs de mieux contrôler le processus de production. En plus de réduire considérablement le temps et le coût de production, la flexibilité et la fiabilité du système permettent également aux utilisateurs de produire des caractéristiques plus fines sur leurs plaquettes, avec des tolérances plus faibles qu'auparavant. Dans l'ensemble, ASML 4022.436.7550 est un pas de plaquette avancé qui est parfait pour une production ou un prototypage à haut volume. Il tire parti de sa haute optique de projection NA, de logiciels précis et de processus automatisés pour faciliter les processus de production dans diverses applications. Ses capacités à projeter des images à haute résolution, combinées à sa flexibilité pour concevoir leurs propres processus ou utiliser les protocoles existants, en font une solution vraiment idéale pour toute application liée à la lithographie.
Il n'y a pas encore de critiques