Occasion NIKON NSR 1505 G6E #293602162 à vendre en France

Fabricant
NIKON
Modèle
NSR 1505 G6E
ID: 293602162
Stepper Reduction projection optical system: Numerical aperture: 0.54 Reduction ratio: 5:1 Lens distortion: Within ±0.12 µm (for X and Y) Exposure wavelength: G-Line (458 nm) Exposure area: Diameter: 24.74 mm 15 mm x 15 mm 13.42 mm x 20.14 mm Illumination optical system: Exposure power: 300 m-W/cm² Illumination uniformity: Within ±2.5% Integrated exposure stability: Within ±2% (For ≥30 mJ/cm²) Exposure time setting range: 0.05 sec to 9.9999 sec and 0 sec Ultra high pressure mercury lamp: 1000 W Auto focus system: Oblique incident light detection method Repeatability: ±0.02 µm Vertical stroke: 0.6 mm Focus offset entry range: ±30 µm.
NIKON NSR 1505 G6E est un pas de plaquette avancé conçu pour permettre un traitement lithographique précis au niveau du nanomètre. L'outil utilise des technologies de pointe pour permettre une imagerie précise et très efficace des plaquettes de silicium. L'équipement dispose d'un étage d'imagerie haute performance et de deux étages de lithographie contrôlables indépendamment, permettant des alignements précis et à exposition multiple pour obtenir une imagerie haute résolution. Le système utilise également une unité de détection de focalisation de haute précision pour assurer des focalisations d'image précises. NIKON NSR-1505G6E est équipé d'une machine à balayage rapide qui supporte un balayage jusqu'à 6 000 mm/s et d'un outil de positionnement de haute précision capable d'obtenir une précision de position de 1,7 nanomètres. L'outil est également capable de fournir une capacité de balayage de faisceau d'ascenseur, permettant une exposition multi-motifs en une seule étape d'exposition. Cette fonctionnalité est couplée à un algorithme unique de « chevauchement » qui permet à l'exposition au motif de couvrir avec succès n'importe quel design avec plus de 15 motifs. NSR 1505 G6E est également conçu pour être à la fois convivial et flexible. L'outil est équipé d'une interface utilisateur graphique intuitive qui facilite le contrôle de l'utilisateur et permet de modifier la recette de lithographie et l'ensemble de programmes. En outre, ce stepper est conçu pour être compatible avec un certain nombre de méthodes d'exposition lithographiques populaires, y compris l'ultraviolet profond (UV), KrF et i-line ainsi que des modèles d'exposition prédéfinis. L'outil dispose également d'une opération sans entretien comprenant un porte-plaquettes multicouches pour sécuriser les plaquettes pendant l'exposition. Dans l'ensemble, NSR-1505G6E est un pas de plaquette puissant et avancé qui offre des capacités de lithographie précises de l'échelle du nanomètre au micron. Son atout de balayage rapide et sa précision de positionnement permettent une imagerie lithographique efficace et précise qui est cruciale pour la fabrication de puces et d'autres produits électroniques. Le fonctionnement sans entretien du modèle et son interface conviviale en font un outil de référence pour les organisations et les particuliers à la recherche d'un pas de plaquette fiable et polyvalent pour leurs besoins en lithographie.
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