Occasion ASM A 412 #9176796 à vendre en France

Le four de diffusion ASM A 412 est un outil puissant et fiable pour la technologie avancée de liaison de diffusion et de croissance épitaxiale. Il convient à diverses applications, y compris la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, les dispositifs MEMS (systèmes microélectromécaniques), les technologies avancées de dispositifs de procédé, et l'emballage avancé. ASM A412 Diffusion Four est équipé d'un quadrilatère, quadrilatère, étanche, four vertical contrôlé sous vide, une plaque thermique multicristalline de 4 zones, 3000 W, et un mécanisme de stabilisation des plaquettes. Le mécanisme de stabilisation des plaquettes assure une grande homogénéité de la température des plaquettes, ce qui est l'un des principaux avantages du four de diffusion. La plage de température du four va de la température ambiante à 1200 ° C La stabilité en température peut être maintenue à 0,1 ° C et l'homogénéité en température est typiquement meilleure que 0,5 ° C Le four est également livré avec une variété de caractéristiques et d'accessoires. Par exemple, il dispose d'une turbomachine pour améliorer la vitesse de pompage et réduire le temps d'établissement du vide jusqu'à 1E-4 Torr avant le processus de diffusion, et de l'orifice d'ouverture et d'échappement des gaz qui permettent un contrôle précis des flux de pression et de gaz pendant le processus. Le four dispose également d'un mécanisme de contre-rotation unique pour réduire l'effet de gravure des pulvérisateurs. La plaque d'extrémité peut accueillir des échantillons d'une taille allant jusqu'à 8 "de diamètre. De plus, le four offre une large gamme d'applications en tirant parti de ses éléments chauffants métalliques de fond et de sa capacité à réaliser une croissance épitaxiale et une oxydation à basse température, un dépôt de motif de conduction spécifique, un durcissement des rayonnements et un recuit thermique rapide, et un brasage métallique assisté par laser. Dans l'ensemble, un four de diffusion 412 est le choix idéal pour la technologie avancée de liaison de diffusion et de croissance épitaxiale. Sa température et son homogénéité faciles à contrôler, son design robuste et fiable et sa large gamme de caractéristiques et d'accessoires en font le choix idéal pour une variété d'applications.