Occasion ASM ETW-450 #9200208 à vendre en France

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ASM ETW-450
Vendu
ID: 9200208
Style Vintage: 2014
Wet / Dry oxide furnace 2014 vintage.
ASM ETW-450 est un four de diffusion avancé utilisé pour introduire des espèces gazeuses dans des matériaux solides. C'est un outil puissant et polyvalent qui permet l'incorporation d'éléments dopants, tels que l'arsenic et le phosphore, dans la structure céréalière d'une large gamme de matériaux semi-conducteurs, à la fois sous forme de monocristaux solides et en couches minces. Le système est constitué de l'unité principale du four, d'un recuit et d'une chambre associée pour les procédés de dopage. La chambre du four est revêtue d'un isolant en graphite et le recaleur est équipé d'un fond de bateau en graphite. L'uniformité thermique dans le recuit est assurée par la circulation d'air. De plus, le système peut être interfacé soit avec une paroi chaude, soit avec un pulvérisateur de type paroi froide afin d'augmenter l'efficacité du processus d'incorporation de dopant. Le four peut être exploité soit en un seul étage, soit en deux étages. En une seule étape, des espèces gazeuses sont injectées dans la zone chaude du four, où des températures allant jusqu'à 1000 ° CAE sont atteintes. Les espèces obtenues sont ensuite diffusées dans le matériau de l'échantillon. En deux étapes, les espèces gazeuses sont d'abord injectées dans la zone froide du four où les températures atteignent jusqu'à 150 ° CAE. Ceci localise le dopant dans des zones chaudes spécifiques ou multiples de l'échantillon. Après avoir atteint le niveau désiré de localisation du dopant, les températures dans la zone chaude sont élevées à la température de fonctionnement désirée, permettant ainsi la diffusion des espèces gazeuses dans le matériau de l'échantillon. ETW-450 est équipé d'un certain nombre de dispositifs de sécurité pour aider à assurer un environnement de travail sûr, tels que le contrôle du gaz inerte rechargé, les capteurs de température et de pression surveillés et le contrôle numérique du gaz. Dans l'ensemble, le système est une méthode efficace et sûre de dépôt d'éléments dopants dans des matériaux semi-conducteurs. Sa flexibilité, combinée à ses performances fiables, fournit d'excellents résultats et assure une répétabilité dans les processus de fabrication.
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