Occasion KOKUSAI Vertron III #135994 à vendre en France

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ID: 135994
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1999
Vertical diffusion furnace / LPCVD / Poly CVD furnace, 8" Process applications: Dry-Ox, Wet-Ox, NO(N2O)-Anneal, Well Diffusion, N2(Ar, H2)-Anneal, PH3-Anneal, Doped/Undoped-Poly-Si, Doped/Undoped-SiGe-Poly, Si3N4, TEOS, HTO Accommodates: 5 wafers simultaneously Automatic filler dummy wafer supply by wafer detection mechanism SEMI standard compliant I/O stage Supports SMIF interface GUI tube controller (CX3000 series) SECS / GEM compatibility 1999 vintage.
KOKUSAI Vertron III est un four de diffusion et les accessoires associés utilisés pour la croissance et le traitement thermique des matériaux semi-conducteurs. Vertron III est fabriqué par KOKUSAI Electric et connu pour ses performances et sa fiabilité dans les applications de R&D et de production. KOKUSAI Vertron III est un four monobloc capable de diffuser des températures allant de 300 ° C à 1100 ° C Le cœur de l'équipement est un schiste à quartz qui abrite un suscepteur de graphite automatisé capable de monter des substrats jusqu'à 8 pouces de diamètre. Une lampe halogène de longue durée est utilisée pour éclairer la caméra intégrée pour surveiller l'uniformité du processus et est réglable pour différentes tailles de substrats. Les bobines de chauffage en graphite et en SiC sont utilisées pour fournir les vitesses de chauffage et de refroidissement nécessaires à l'intérieur de la chambre. Vertron III dispose d'une interface de contrôleur intuitive qui contient un ensemble de fonctions d'exploitation et d'affichage puissantes. Des fonctions telles que le contrôle du débit de gaz réglable ainsi que le contrôle manuel de la pompe sont inclus dans le système, permettant aux utilisateurs de personnaliser le processus pour répondre à leurs spécifications exactes. De plus, des rapports de processus d'au plus 100 étapes peuvent être facilement générés, fournissant un aperçu complet de chaque processus exécuté. Le logiciel inclus est conçu pour surveiller et contrôler plusieurs paramètres, tels que la température et la pression du four, afin d'assurer la reproductibilité du procédé. Les utilisateurs peuvent également configurer une variété de recettes de processus pour automatiser leurs processus et les stocker pour une utilisation future. Des dispositifs de sécurité sont également inclus, tels que la protection contre la surchauffe, l'arrêt forcé du gaz et les pompes à vide qui sont automatiquement fermées si la pression à l'intérieur de la chambre dépasse le niveau spécifié. Pour garantir la qualité et les performances à long terme, le KOKUSAI Vertron III est équipé d'une soufflante haute pression qui aide à réduire l'oxydation des composants et d'une unité de refroidissement de l'eau qui aide à prévenir la surchauffe. Le four et les accessoires sont appuyés par une machine autodiagnostique contrôlée par l'IA conçue pour identifier les problèmes de maintenance et avertir l'utilisateur lorsque la maintenance est requise. D'autres améliorations sont disponibles qui peuvent augmenter le nombre d'étapes de traitement, améliorer la précision de l'outil et réduire le temps de maintenance. Dans l'ensemble, Vertron III de KOKUSAI Electric est un excellent choix lorsque la fiabilité et les performances sont nécessaires dans la production de semi-conducteurs et les applications de R&D. Avec une large gamme de températures et de réglages de traitement, une interface utilisateur intuitive et des fonctionnalités de processus et de sécurité complètes, KOKUSAI Vertron III est une solution idéale pour tous les besoins du four de diffusion.
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