Occasion ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER 601E #9197180 à vendre en France

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ID: 9197180
Deep reactive ion etcher (DRIE).
ALCATEL/ADIXEN/PFEIFFER 601E est un graveur/asher conçu pour la gravure physique et chimique de plaquettes à semi-conducteurs. Il s'agit d'un graveur à plasma de gaz inerte qui peut supporter une large gamme de gaz de processus de wafer, y compris l'hélium, l'hydrogène et l'oxygène. L'etcher assure un chauffage uniforme et une gravure chimique des plaquettes grâce à sa haute résolution, son temps réglable et son contrôle de la température. Il est équipé de plusieurs fonctions automatiques pour un fonctionnement optimal, y compris un panneau de gaz multi-zones pour une distribution précise du gaz. ADIXEN 601E est un graveur polyvalent avec une large gamme de capacités. Il peut prendre en charge des opérations de gravure de plaquettes simples ou multiples avec des réglages personnalisables de temps et de température, assurant un retrait équitable et efficace des matériaux indésirables. En outre, l'etcher offre un débit de gaz réglable et des niveaux de pression, permettant aux utilisateurs d'adapter le processus à leurs besoins spécifiques. L'etcher est également équipé d'un générateur de motifs de cibles réglables à haute résolution qui peut créer jusqu'à 8 cibles différentes par plaquette. ALCATEL 601E est facile à utiliser et comprend plusieurs fonctions de sécurité. Il est équipé d'un écran de diagnostic qui fournit une rétroaction sur le processus de gravure et permet un fonctionnement sans problème. De plus, l'etcher comprend une série d'interceptions de sécurité et d'alarmes qui fournissent des alertes visuelles et sonores en cas de conditions inappropriées. D'autres fonctionnalités utiles comprennent un bouton d'arrêt d'urgence et un système d'arrêt automatique pour une sécurité accrue. 601E est conçu pour répondre aux normes les plus élevées de qualité et de fiabilité. Il est en acier inoxydable résistant à la corrosion et dispose d'une fenêtre en quartz vide qui empêche la perte de l'intégrité de l'échantillon pendant les opérations à long terme. Il est également conçu pour fonctionner dans des conditions extrêmes de température et de pression, ce qui le rend adapté à un large éventail d'applications. En outre, l'etcher est conçu pour répondre aux exigences de la SEMI (Semiconductor Equipment and Materials International) et d'autres normes de sécurité et de qualité spécifiques à l'industrie.
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