Occasion LAM RESEARCH / DRYTEK DRIE-100 #164804 à vendre en France

ID: 164804
Cassette planar plasma wafer etcher Specifications: Uses chlorine- and fluorine-based chemistries for etching various Si, polysilicon, nitride, tungsten, tungsten silicide films Selectivity: e.g., 20:1 poly Si:SiO2 Laser interferometer for etch rate determination and end-point detection Various Accessories & Wafer Holders Included Complete Manuals Included Leybold-Heraeus D60A Trivac Rotary Vane Vacuum Pump available Leybold-Heraeus D60A Trivac Rotary Vane Vacuum Pump w/Breaker Box available Deinstalled.
LAM RESEARCH/DRYTEK DRIE-100 est un équipement réactif de graveur d'ions et d'asher qui est utilisé pour produire des nanomètres et des microns sur des substrats à couches minces. Sa haute performance, son ingénierie de précision et ses contrôles faciles à utiliser en font l'outil idéal pour un certain nombre d'applications avancées de traitement de matériaux. DRYTEK DRIE-100 a une grande taille de chambre et peut manipuler des substrats jusqu'à 200 mm de diamètre. Il fournit un haut niveau de sélectivité pour une gamme de matériaux en couches minces, y compris les métaux, les polymères, le silicium, le germanium et les matières organiques. Les procédés de gravure et d'asher peuvent être adaptés pour minimiser les gaz carbonés et fluorés, ce qui se traduit par une plus grande sélectivité et une gravure uniforme des caractéristiques. LAM RESEARCH DRIE-100 dispose d'une alimentation qui contrôle le processus de gravure, d'un support de substrat, d'un générateur RF (radiofréquence) et d'une unité de commande de gaz. Le système de commande de DRIE-100 peut être programmé pour traiter un large éventail de matériaux en couches minces et établir divers paramètres de processus, tels que la pression, la puissance RF, l'espacement anode/cathode, le débit d'argon et le temps de gravure. De plus, LAM RESEARCH/DRYTEK DRIE-100 peut prendre en charge plusieurs modes de processus, y compris la gravure ionique réactive traditionnelle (RIE) et le nettoyage/gravure à deux étapes pour minimiser la contamination. Il offre également la possibilité d'utiliser la gravure photo-activée pour une sélectivité accrue. DRYTEK DRIE-100 est équipé d'une unité de contrôle de pression avancée, associée à une série de modules de vide pour améliorer la stabilité des plaquettes et l'uniformité de gravure. LAM RESEARCH DRIE-100 a été conçu en tenant compte de la sécurité et comprend la garantie de résultats de haute précision, reproductibles et fiables. Son logiciel comprend des paramètres configurables par l'utilisateur, ainsi que des fonctions telles que les paramètres, la mémoire non volatile, l'horloge en temps réel et une fonction d'autofocus à cible rapide. La machine est également équipée de diagnostics intégrés et de capacités d'autodiagnostic. DRIE-100 est un outil puissant et polyvalent pour les applications de R-D et de production pilote. Sa conception avancée, intégrant des commandes faciles à utiliser et un contrôle de pression avancé, garantit des résultats rapides, reproductibles et fiables. Avec ses capacités dynamiques et sa construction robuste, LAM RESEARCH/DRYTEK DRIE-100 est un outil fiable pour créer des caractéristiques à l'échelle des nanomètres et des microns avec une haute sélectivité
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