Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Quantum X Plus #9172233 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS Quantum X Plus
ID: 9172233
Taille de la plaquette: 12"
High current ion implanter system, 12".
AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum X Plus est un implant ionique avancé et un moniteur conçu pour optimiser les performances des dispositifs semi-conducteurs. Il est spécialement conçu pour aider l'ingénierie de substrats semi-conducteurs pour des performances de circuit maximales. AMAT Quantum X Plus contient de nombreuses fonctionnalités qui permettent une performance et un contrôle supérieurs du processus d'implantation. L'équipement comprend un accélérateur de particules entièrement intégré capable de réaliser des ions jusqu'à 240 keV d'énergie, permettant l'implantation dans des substrats de silicium avec un haut degré de précision. En outre, le système est conçu avec un alignement optique de précision intégré et une unité de déchargement porteuse pour permettre un alignement efficace et précis du noyau pour une performance optimale de l'implant. Cette machine peut être intégrée à l'outil AMAT Implant Sentinel II, qui mesure l'angle précis d'implantation. L'outil est capable d'utiliser différents masques et des niveaux élevés de précision et de précision pour assurer le parfait alignement et l'implantation. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Quantum X Plus est également livré avec la technologie avancée d'implantation et de surveillance Ultra-Sense qui permet aux opérateurs d'améliorer leurs performances de l'appareil en contrôlant et surveillant tous les paramètres critiques des implants en temps réel. La source magnétron refroidie à l'azote sur Quantum X Plus possède des capacités d'auto-maillage supérieures et offre les angles d'implantation les plus élevés dans l'industrie. Cela permet des angles d'implantation précis aussi fins que 0,2 mm et des profils très accordables permettant un réglage très fin de l'énergie du faisceau d'ions et de la distribution des angles. AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum X Plus peut être utilisé pour une variété de matériaux allant du silicium à l'arséniure de gallium, et est capable de délivrer des doses de dopage et d'élimination de grains très fins fournies par d'autres outils. AMAT Quantum X Plus est un outil complet conçu pour offrir des performances et un contrôle supérieurs. L'atout comprend un puissant modèle de contrôle de faisceau avec des profils de faisceau d'ions et des capacités de surveillance de flux. En outre, MATÉRIAUX APPLIQUÉS Quantum X Plus contient plusieurs autres fonctionnalités telles que la surveillance des processus en temps réel, la puissance du faisceau ionique et le contrôle de la position du faisceau, les débits explicites des implants et les capacités de modulation du faisceau. Ces fonctionnalités aident l'équipement à automatiser le processus d'implantation, à garantir des implants de haute qualité et à réduire le temps de traitement. Quantum X Plus est un outil puissant et très polyvalent d'implantation et de surveillance d'ions. Le système est conçu pour produire des performances optimales des dispositifs semi-conducteurs, avec son accélérateur intégré de particules, son alignement optique de précision et ses technologies avancées d'implantation et de surveillance Ultra-Sense. Il permet aux opérateurs de contrôler et de surveiller divers paramètres d'implantation pour une implantation plus précise et plus fiable et il est capable d'implantation dans divers matériaux dont le silicium et l'arséniure de gallium. C'est un excellent choix pour les ingénieurs qui recherchent des performances et un contrôle supérieurs de leurs processus implants.
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