Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Quantum X Plus #9185368 à vendre en France

Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.

AMAT / APPLIED MATERIALS Quantum X Plus
Vendu
ID: 9185368
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2005
High current implanter system, 12" Single wafer Energy option: LEAP Ultra low (0.2-80 keV) Stand-alone system enclosure Signal tower: Front / Back tool Processor: ISPM Processor Isocentric scanner Beamline: Ultralife QX+ ion source G1 Electrode: Graphite Gas panel box: Argon system and gas purge TEM Vacuum: LEYBOLD Turbo pump (3) Cryo pumps SPECTRA Residual gas analyzer (RGA) MMTX Transformer Gas panel: 8-Position: AsH3, PH3, GeF4, BF3, SiF4, CO2, 2-Blank Wafer loader: 4 Station SEMI standard wafer loader Hermos tag reader SEMI E84 OHT PIO Kits Low backside particle vacuum end effectors 2005 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum X Plus est un implant et un moniteur ionique de pointe conçu pour aider les fabricants à réaliser l'implantation ionique de la plus haute qualité. Ce dispositif offre des performances supérieures grâce à son équipement breveté de livraison et de contrôle d'ions, un réglage précis du niveau d'énergie et un suivi en ligne du débit de dose. Il offre également une plus grande fiabilité et robustesse du système, ainsi qu'une meilleure performance par rapport aux implantateurs ioniques classiques. L'unité de délivrance d'ions AMAT Quantum X Plus permet de délivrer des ions au substrat cible qui sont très précisément contrôlés et mesurés. Cette machine utilise une conception quadrupolaire qui permet de focaliser les ions et de les diriger avec précision vers le substrat cible. Ceci garantit que les ions sont précisément dirigés vers l'endroit où ils sont nécessaires et que la concentration souhaitée est atteinte. En outre, MATÉRIAUX APPLIQUÉS Quantum X Plus utilise un réglage de niveau d'énergie réglable qui assure que les ions entrent dans le substrat cible avec le niveau d'énergie requis, permettant un meilleur contrôle du processus d'implantation. L'outil de surveillance en ligne de Quantum X Plus permet un suivi en temps réel du débit de dose et de la couverture du substrat. Cela garantit que le processus d'implantation ionique est optimisé et contrôlé en cours. Il fournit également aux fabricants des informations utiles sur l'utilisation de différentes doses d'implantation et niveaux d'énergie, ce qui leur permet d'apporter les ajustements nécessaires au processus d'implantation si nécessaire. La robustesse d'AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum X Plus est encore renforcée par son atout de refroidissement supérieur. Le fabricant a déployé des refroidisseurs avancés dans l'appareil qui sont conçus pour maintenir la température de l'installation à basse température, assurant que les ions restent concentrés et stables pendant l'implantation. Le dispositif utilise également un modèle de déplacement actif unique qui continue de surveiller le débit de dose et la couverture du substrat pendant le fonctionnement, ce qui permet au processus d'implantation de rester stable et précis. En conclusion, AMAT Quantum X Plus est la prochaine génération d'implantateurs et de moniteurs d'ions, offrant des performances améliorées, une plus grande fiabilité et robustesse de l'équipement, et une surveillance précise du niveau d'énergie et du débit de dose. Ses différents composants tels que le système de distribution et de contrôle des ions, les niveaux d'énergie réglables, la surveillance en ligne et l'unité de refroidissement robuste contribuent tous à un processus d'implantation ionique supérieur.
Il n'y a pas encore de critiques