Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Quantum #9187369 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Quantum est un implant et un moniteur ionique utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs. Il est utilisé pour implanter des ions dans des matériaux semi-conducteurs pendant le processus de fabrication afin d'obtenir les propriétés électriques souhaitées. L'équipement est capable d'implanter des ions jusqu'à 48 cm de profondeur et peut être utilisé pour divers procédés semi-conducteurs, y compris l'implantation ionique, le recuit thermique rapide et le revêtement diamant. AMAT Quantum peut implanter la plupart des ions courants utilisés dans les technologies semi-conductrices, tels que le bore, le phosphore, l'azote et l'oxygène. Il dispose d'énergie de faisceau réglable et de courants de faisceau réglables et peut transmettre des électrons avec des énergies allant de 0,1 à 10 MeV. L'implanteur peut également traiter des processus de recuit à haute température, avec des températures allant jusqu'à 1000 degrés Celsius. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Quantum fonctionne également comme un moniteur pour surveiller le processus d'implantation. Le système surveille des paramètres tels que le courant du faisceau, la tension du faisceau, la taille de la tache du faisceau et la taille de la pointe du faisceau. Il comporte également une unité d'acquisition de signaux multi-canaux, qui sert à mesurer les ions implantés. De plus, il peut mesurer l'état de charge ionique, permettant à l'utilisateur d'ajuster les paramètres d'implantation en conséquence. Quantum est extrêmement convivial, avec un port de vue en 2D, permettant l'observation en temps réel du processus d'implantation. L'implant dispose également d'une interface utilisateur graphique intuitive, ce qui le rend facile à utiliser et à surveiller. La machine utilise une technologie moderne d'acquisition et d'analyse de données, qui permet de mesurer et de contrôler avec précision le processus d'implantation. Dans l'ensemble, AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum est un implant et un moniteur ionique avancé et hautement capable qui peut être utilisé pour une variété de procédés de production de semi-conducteurs. Il offre une énergie et un courant de faisceau réglables, ainsi que des systèmes d'acquisition et de surveillance de signaux multi-canaux, permettant à l'utilisateur d'avoir un contrôle et une précision maximum pendant le processus d'implantation. Il dispose également d'une interface utilisateur graphique intuitive, ce qui le rend facile à utiliser et à surveiller.