Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS xR Leap #9174557 à vendre en France
Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.
Appuyez sur pour zoomer
Vendu
ID: 9174557
Ion implanter, 8"
Main components:
Processor module
Beamline module
Source services module
Processor rack
Heat exchanger / PDU
Mobile PC & desk
Clean room PC
Enclosure
Signal tower
TEM Probe
No VESDA smoke detector
ISO TX
Mains matching TX
Beamline, controllers PSU's and assy:
Pre accelerator / Mag controller
Beamline inst
Vacuum controller
Post A controller
Turbo controller
Focus PSU
Decel PSU
A Mag PSU
Pre A converter PSU
Source mag PSU
Suppression PSU
Beam path components, source / Extraction / Flight tube / MRS and PFS assy:
Source head type: IHC
Extraction type: Dual bellows
Flight tube
MRS
Pre defining
PFS Type: HD PFS
Gas cabinet (Source services):
PH3 Module: SDS
AsH3 Module: SDS
Boron: HP
Ar: HP
Purge module
PSU's, Controllers and assy:
Gas and temperature control
Filament PSU
Arc PSU
Bias PSU
DPS
Pre A HV stack
G2 PSU & Components
Vacuum system:
Make / Model / Description
SEIKO SEIKI / STP-1000 / Source turbo pump
SEIKO SEIKI / STP-450 / MRS turbo pump
CTI / OB-10 / Side cryo pump
CTI / OB-10 / Rear cryo pump
Processor PSU's controller and assy:
Wheel & components
Spin motor
Gripper
Transfer arm
Clip actuator
Blade
A/B Sensor
Tilt assy
PFS DP Box
Beam stop
Beam profiler
Filament PSU (PFS)
Wafer loader / Mini environment assy:
Carousel
Indexer
W/L Door
Orientor
Cassettes / Trays
Arm servo PSU (XR80)
Arm servo cont (XR80)
ISO TX 9500
Post A:
No HV stack
No converter PSU
No controller
Control rack:
DAQPDU
Option chassis
Target sys inst
W/L Cont
W/L Vacuum
Ground PDU
Target sys vacuum
Spin / Scan cont
Direct drive interface
Plasma flood chassis
Scan amp
Spin amp
Spin / Scan PDU
Bleed resistor
Motech 80
VME:
CPU Main board
Loop cont
Energy level: 0.2-80 keV
1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS xR Leap est un implant ionique avancé et un moniteur utilisé dans le processus de fabrication des semi-conducteurs. Il est conçu pour fournir des implantations ultra-rapides de dopants de haute précision dans des substrats destinés à la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il utilise des solutions logicielles et matérielles sophistiquées pour fournir le plus haut niveau de précision tout en fournissant une grande variété d'options de personnalisation pour les clients pour adapter la solution à leurs besoins spécifiques. AMAT xR Leap dispose d'une interface graphique intuitive, d'une technologie de source ionique à double faisceau, d'un champ magnétique fixe et d'une capacité d'isolation magnétique avancée pour garantir des taux d'implantation et des densités de particules de haute précision. L'équipement de moniteur intégré permet de mesurer et de contrôler la qualité en temps réel, tandis que le système optionnel d'acquisition de données, combiné à une suite logicielle 2D d'acquisition et d'analyse d'images, garantit que le processus est hautement automatisé et traçable. L'unité offre également une technologie d'entraînement en peigne à deux étages pour le balayage de faisceaux très précis et l'implantation simultanée d'espèces d'implants multiples. Il est également capable d'atteindre des niveaux de dose allant jusqu'à 250W, et sa technologie de refroidissement électronique à haut rendement garantit de faibles niveaux d'énergie post-implantation. En outre, la machine APPLIED MATERIALS xR Leap est très évolutive et conçue pour répondre à différents niveaux de vitesse d'implantation, d'insensibilité au faisceau et de contrôle de tension. Il est également équipé de matériel sophistiqué et de logiciels de diagnostic, permettant aux techniciens de surveiller et de maintenir la performance globale de l'outil. Les fonctions de sécurité intégrées de XR Leap en font une option beaucoup plus fiable pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs les plus exigeants, ce qui permet de réduire les coûts de maintenance, de réduire les temps d'arrêt et d'optimiser l'efficacité. En outre, l'actif est facile à personnaliser et à installer, ce qui en fait un choix idéal pour un large éventail d'industries.
Il n'y a pas encore de critiques