Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS xR80 Leap II #9174553 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS xR80 Leap II est un implant et un moniteur ionique, spécialement conçu pour la fabrication de plaquettes semi-conductrices. Il permet d'implanter des ions de haute précision dans le matériau, ce qui conduit à un profil de dopage très uniforme. Il dispose d'une source de faisceau variable avancée, qui permet un contrôle précis de l'énergie et du dosage des ions. La source d'ions est équipée d'un générateur de champ magnétique de haute précision pour une déflexion précise du faisceau. Le moniteur ionique AMAT xR80 Leap II dispose d'un équipement d'étalonnage avancé qui utilise des retours d'information en temps réel pour garantir la qualité fine des données, ainsi que des contrôles de sécurité automatisés pour assurer une implantation uniforme sur l'ensemble de la plaquette. Il utilise une Plate-Forme Optive Adaptative (AOP) pour mesurer et ajuster la dose en temps réel, ainsi qu'un réseau de photodétecteurs multi-canaux pour recueillir des informations détaillées sur la position. AMAT xR80 dispose également d'un système d'alignement de faisceau intelligent (SBAS), qui élimine le besoin d'intervention manuelle et permet de placer des ions de haute fidélité dans la plaquette. Le SBAS s'assure également que la dose est réglée et maintenue avec précision sur une gamme d'angles et de distances. Le xR80 bénéficie d'un taux de défaillance très faible, grâce à sa conception robuste et à son unité de surveillance des capteurs. Il est également capable de chauffer la plaquette à 10˚C zéro absolu près, en veillant à ce que les ions restent en place quelles que soient les conditions environnementales. En termes de sécurité, APPLIED MATERIALS xR80 Leap II est équipé de dispositifs de sécurité et a été certifié pour la conformité USDOT (U.S. Department of Transportation). L'enceinte est recouverte d'inhibiteurs antistatiques, ce qui la rend conforme aux dernières normes CE. Il dispose également d'une connexion de sécurité, permettant seulement au personnel autorisé d'être à proximité. XR80 Leap II est un tout-en-un implant et moniteur ionique, conçu pour aider les utilisateurs à obtenir un dopage propre et uniforme dans leurs plaquettes semi-conductrices. Il dispose d'un réglage avancé des faisceaux, d'une machine de contrôle de la qualité des données en temps réel et d'une variété de caractéristiques de sécurité, ce qui en fait un excellent choix pour tout laboratoire ou environnement de fabrication.