Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS xR80 #9197630 à vendre en France

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ID: 9197630
High current implanter, 8" P/N: 0240-94906 Main system: xR-Leap SMIF System: LPT 2200 Hardware configuration: NOVAPURE Effluent gas scrubber EGS-237 Automated control system MOTOROLA 68040 Processor (VME) with fiber optic isolation Automatic recipe controlled: 0°-7° (Tilt operation) IHC Source (Module and control) Leap II Beamline HDPFS Tetrode extraction assembly Dual extraction PSU Ion source with G2 extraction Leap II control chassis and leap II beam stop Dual range analyzer mag PSU Leap II source chamber exit aperture Wafer orienter: Notched wafers Low metal contamination Silicon coated spoke process wheel with active wafer cooling Vacuum load lock compatible with robotic loading systems Automated cassette - cassette handling with slot integrity ((3) Cassette trays, 8") (2) Light-pens, 17" SONY color terminals Closed loop Dl water cooling system Cryo compressors located remotely Mains matching transformer Rear cyro pump lift Peek scan cover Arm position sensor kit Wafer handling and wheel, 8" 4 Position SDS gas box CT 110" Onboard cryos with CTI 9600 compressors LEYBOLD Turbo pumps SECS II Host computer interface Cooling system: Heat exchanger / Closed loop de-ionized water cooling system Wafer loader: (3) Carousel paddles Wafer orients: Batch notch orient Wheel chamber: (17) Heat sinks, 8" Control system: Fiber optic communication network Control module: VME Microprocessor Plasma flood gun: HDPFS Beam line: IHC Gas panel option: SDS Toxic gas modules for AsH3 and BF3 Tilt: Variable implant angle, ±10° Hard disk: 4 GB RAM: 128 MB CIM Linked 1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS xR80 est un implant ionique et un moniteur utilisé dans la fabrication de matériaux semi-conducteurs. Il est conçu pour fournir une implantation ionique précise et répétable avec une grande variété de substrats allant du silicium, du germanium et de l'arséniure de gallium. AMAT xR80 est un équipement d'implantation ionique de haute précision et à haut débit avec un haut degré de flexibilité pour accueillir une gamme d'applications clients. La principale composante de APPLIED MATERIALS XR 80 est sa source d'ions, qui est capable d'effectuer des implantations à un seul faisceau et des opérations d'implantation à plusieurs faisceaux. Cela permet aux utilisateurs de maximiser leur débit de faisceau d'ions tout en conservant un haut degré de précision et de précision. En outre, la source d'ions a une plage de puissance pouvant atteindre jusqu'à 80kV. Avec cette plage de puissance, AMAT XR 80 peut implanter des ions avec un niveau d'énergie très précis. Le système de livraison de faisceau ionique XR80 est conçu pour garantir un haut degré de précision et de précision. Pour ce faire, on utilise des systèmes automatisés d'alignement des faisceaux, de réglage de la taille des taches et d'analyse des faisceaux laser. Avec ces caractéristiques, APPLIED MATERIALS xR80 peut maintenir une taille de tache et un alignement de faisceau très précis, indépendamment des matériaux de substrat implantés. AMAT/APPLIED MATERIALS XR 80 comprend également un moniteur de courant de faisceau sensible intégré et un moniteur de dose d'ions. Cela permet aux utilisateurs de surveiller leur processus d'implantation ionique en temps réel, en assurant la précision et la répétabilité. Le XR 80 est également équipé d'une unité de sécurité sophistiquée qui comprend une coupure à basse énergie, des interruptions de faisceau et des alarmes de fin de course pour protéger à la fois le processus et les substrats en cours d'implantation. Cela fait d'AMAT/APPLIED MATERIALS xR80 un excellent choix pour la fabrication de semi-conducteurs, car il peut fournir un environnement sûr et contrôlé pour l'implantation d'ions. De plus, AMAT xR80 est livré avec une interface utilisateur graphique intuitive, ce qui facilite la programmation et la maintenance de la machine. Le logiciel permet aux utilisateurs d'effectuer des calculs rapides, d'optimiser les recettes et d'accéder à l'historique des données connexes. Cela fait des matériaux appliqués XR 80 un outil très convivial qui peut être facilement intégré dans les processus de fabrication existants. Dans l'ensemble, AMAT XR 80 est un excellent choix d'implants ioniques. Avec son haut degré de précision et de flexibilité, il fournit aux utilisateurs un processus fiable et sûr pour la fabrication de matériaux semi-conducteurs. Grâce à son interface graphique intuitive et à ses puissantes fonctionnalités de sécurité, il garantit un haut niveau de répétabilité et de fiabilité. Sa capacité à accueillir une variété de substrats en fait un outil idéal pour une gamme d'applications.
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