Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS xR80 #9197630 à vendre en France
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Vendu
ID: 9197630
High current implanter, 8"
P/N: 0240-94906
Main system: xR-Leap
SMIF System: LPT 2200
Hardware configuration: NOVAPURE Effluent gas scrubber EGS-237
Automated control system
MOTOROLA 68040 Processor (VME) with fiber optic isolation
Automatic recipe controlled: 0°-7° (Tilt operation)
IHC Source (Module and control)
Leap II Beamline
HDPFS
Tetrode extraction assembly
Dual extraction PSU
Ion source with G2 extraction
Leap II control chassis and leap II beam stop
Dual range analyzer mag PSU
Leap II source chamber exit aperture
Wafer orienter: Notched wafers
Low metal contamination
Silicon coated spoke process wheel with active wafer cooling
Vacuum load lock compatible with robotic loading systems
Automated cassette - cassette handling with slot integrity ((3) Cassette trays, 8")
(2) Light-pens, 17" SONY color terminals
Closed loop Dl water cooling system
Cryo compressors located remotely
Mains matching transformer
Rear cyro pump lift
Peek scan cover
Arm position sensor kit
Wafer handling and wheel, 8"
4 Position SDS gas box
CT 110" Onboard cryos with CTI 9600 compressors
LEYBOLD Turbo pumps
SECS II Host computer interface
Cooling system: Heat exchanger / Closed loop de-ionized water cooling system
Wafer loader: (3) Carousel paddles
Wafer orients: Batch notch orient
Wheel chamber: (17) Heat sinks, 8"
Control system: Fiber optic communication network
Control module: VME Microprocessor
Plasma flood gun: HDPFS
Beam line: IHC
Gas panel option: SDS Toxic gas modules for AsH3 and BF3
Tilt: Variable implant angle, ±10°
Hard disk: 4 GB
RAM: 128 MB
CIM Linked
1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS xR80 est un implant ionique et un moniteur utilisé dans la fabrication de matériaux semi-conducteurs. Il est conçu pour fournir une implantation ionique précise et répétable avec une grande variété de substrats allant du silicium, du germanium et de l'arséniure de gallium. AMAT xR80 est un équipement d'implantation ionique de haute précision et à haut débit avec un haut degré de flexibilité pour accueillir une gamme d'applications clients. La principale composante de APPLIED MATERIALS XR 80 est sa source d'ions, qui est capable d'effectuer des implantations à un seul faisceau et des opérations d'implantation à plusieurs faisceaux. Cela permet aux utilisateurs de maximiser leur débit de faisceau d'ions tout en conservant un haut degré de précision et de précision. En outre, la source d'ions a une plage de puissance pouvant atteindre jusqu'à 80kV. Avec cette plage de puissance, AMAT XR 80 peut implanter des ions avec un niveau d'énergie très précis. Le système de livraison de faisceau ionique XR80 est conçu pour garantir un haut degré de précision et de précision. Pour ce faire, on utilise des systèmes automatisés d'alignement des faisceaux, de réglage de la taille des taches et d'analyse des faisceaux laser. Avec ces caractéristiques, APPLIED MATERIALS xR80 peut maintenir une taille de tache et un alignement de faisceau très précis, indépendamment des matériaux de substrat implantés. AMAT/APPLIED MATERIALS XR 80 comprend également un moniteur de courant de faisceau sensible intégré et un moniteur de dose d'ions. Cela permet aux utilisateurs de surveiller leur processus d'implantation ionique en temps réel, en assurant la précision et la répétabilité. Le XR 80 est également équipé d'une unité de sécurité sophistiquée qui comprend une coupure à basse énergie, des interruptions de faisceau et des alarmes de fin de course pour protéger à la fois le processus et les substrats en cours d'implantation. Cela fait d'AMAT/APPLIED MATERIALS xR80 un excellent choix pour la fabrication de semi-conducteurs, car il peut fournir un environnement sûr et contrôlé pour l'implantation d'ions. De plus, AMAT xR80 est livré avec une interface utilisateur graphique intuitive, ce qui facilite la programmation et la maintenance de la machine. Le logiciel permet aux utilisateurs d'effectuer des calculs rapides, d'optimiser les recettes et d'accéder à l'historique des données connexes. Cela fait des matériaux appliqués XR 80 un outil très convivial qui peut être facilement intégré dans les processus de fabrication existants. Dans l'ensemble, AMAT XR 80 est un excellent choix d'implants ioniques. Avec son haut degré de précision et de flexibilité, il fournit aux utilisateurs un processus fiable et sûr pour la fabrication de matériaux semi-conducteurs. Grâce à son interface graphique intuitive et à ses puissantes fonctionnalités de sécurité, il garantit un haut niveau de répétabilité et de fiabilité. Sa capacité à accueillir une variété de substrats en fait un outil idéal pour une gamme d'applications.
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