Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS xR80 #9198969 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS xR80 ion implanter & monitor est un outil d'implantation ionique flexible, fiable et économique qui peut être utilisé pour produire une large gamme de dispositifs semi-conducteurs. Avec sa combinaison unique de haut débit, de haute précision, de faible coût et de résultats fiables, AMAT xR80 offre une excellente plate-forme pour une variété d'exigences de fabrication. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Les principaux composants du XR 80 sont une unité principale, un canon à électrons, une chambre, un équipement d'évacuation, une interface de commande et un détecteur de particules. L'unité principale du XR 80 est constituée d'une chambre à vide et du canon à électrons. Le canon à électrons est chargé de générer des faisceaux d'ions qui peuvent être obtenus et manipulés par les dispositifs commandés à l'intérieur de la chambre. Ceci se fait en contrôlant et en faisant varier les énergies et les profondeurs des faisceaux d'ions. La chambre d'AMAT/APPLIED MATERIALS XR 80 abrite un certain nombre de composants chargés de produire et de surveiller la manipulation du faisceau d'ions. Il s'agit notamment de lentilles électroniques, d'un contrôleur numérique, d'un détecteur d'ions et d'un système de piégeage des faisceaux. Tous ces composants travaillent ensemble pour produire une série de motifs de faisceau d'ions très précis qui peuvent être utilisés pour découper et manipuler avec précision les substrats semi-conducteurs. L'unité d'évacuation est chargée de maintenir le vide à l'intérieur de la chambre. La machine est capable de produire un niveau de vide nécessaire au bon fonctionnement des MATÉRIAUX APPLIQUÉS xR80, et la chambre peut être scellée de façon étanche lors de l'introduction d'un substrat afin d'assurer des résultats optimaux de manipulation et de manipulation du faisceau. L'interface de contrôle AMAT XR 80 fournit aux utilisateurs une interface graphique, ou interface graphique, qui peut être utilisée pour surveiller les caractéristiques du faisceau, surveiller les performances de l'outil et contrôler divers aspects du fonctionnement de l'appareil. Cette interface permet également une surveillance externe des opérations xR80 grâce à des valeurs mesurées, des réactions des détecteurs et d'autres réactions des réseaux informatiques. Le détecteur de particules d'AMAT/APPLIED MATERIALS xR80 est chargé de détecter la présence de particules parasites qui peuvent survenir en raison d'irrégularités dans la structure du faisceau d'ions. Ceci est particulièrement important pour contrôler les paramètres du faisceau d'ions dans les applications critiques. Le détecteur est capable de détecter les impuretés du faisceau, les petites particules, et est également capable d'identifier l'émission de particules parasites. En conclusion, l'implant ionique AMAT xR80 est un excellent outil pour la production et la manipulation de dispositifs semi-conducteurs. Sa combinaison unique de performances fiables, de débit élevé et de faible coût en fait un choix idéal pour de nombreuses applications de fabrication. De plus, l'interface de contrôle conviviale, les moyens d'évacuation fiables et le détecteur de particules font des MATÉRIAUX APPLIQUÉS XR 80 un excellent complément à toute installation de production de semi-conducteurs.