Occasion NISSIN Exceed 2000 #9179597 à vendre en France

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NISSIN Exceed 2000
Vendu
ID: 9179597
Style Vintage: 1997
Implanters 1997 vintage.
NISSIN Exceed 2000 est un implant ionique avancé et un moniteur utilisé pour effectuer des opérations de dopage efficaces pour les fabricants de semi-conducteurs. Cet équipement ionique fournit une large gamme de sorties de courant et d'énergie avec un contrôle précis des paramètres tels que la direction du faisceau, l'énergie du faisceau et la taille du faisceau, permettant d'obtenir des profils d'implantation ionique hautement adaptés. Plus de 2000 effectue des opérations de dopage de haute qualité grâce à son ajustement de profil séquentiel intelligent. Il contient un grand ensemble d'outils de profilage qui peuvent être utilisés pour définir des motifs d'implantation sur la surface de la plaquette. Le système offre également un réglage automatique des taches de faisceau pour une précision supérieure d'implantation des plaquettes. NISSIN Exceed 2000 est alimenté par une source d'électrons fiable et à faible bruit, capable de maintenir un faisceau d'ions stable et précis. Il dispose de contrôles conviviaux, programmables et haute performance, la surveillance informatique qui permettent un suivi précis du processus d'implantation ionique. L'unité comprend également une double fonction énergétique qui assure un contrôle indépendant des plages d'énergie d'implantation et de recuit et accélère le processus de création des profils de dopage désirés. Plus de 2000 machine intègre une variété de fonctionnalités et de fonctions supplémentaires pour améliorer encore l'opération de dopage. Il contient un balayage intelligent de l'outil de radiographie et de post-implantation qui assure une uniformité optimale dans le processus d'implantation. L'atout comprend également une commande de cartographie intelligente des plaquettes qui permet une conception rapide des motifs des plaquettes. NISSIN Exceed 2000 est conçu pour fournir aux utilisateurs un maximum d'efficacité opérationnelle, de précision et de contrôle sur le processus de dopage. Il est équipé d'une interface graphique puissante et intuitive pour un fonctionnement simplifié, ce qui le rend facile et pratique à utiliser. Ses caractéristiques avancées et sa fiabilité le rendent adapté à une grande variété d'applications de fabrication de semi-conducteurs.
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