Occasion CANON PLA 501 F #9198627 à vendre en France

CANON PLA 501 F est un aligneur de masque de pointe utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour des applications de photolithographie. Il utilise étape et répétition de l'imagerie, avec précision microstepping, pour fournir la résolution submicronique. La table de travail au ralenti de la 501F permet aux utilisateurs de placer et d'aligner avec précision des photomasques sur des plaquettes semi-conductrices. Il est équipé d'un système de contrôle de mouvement à 6 axes qui assure une précision de balayage et une répétabilité optimales. En outre, le projecteur obturateur à grande vitesse permet un placement rapide et précis des photomasques. Le 501F a une large gamme d'exposition (et supporte donc une variété de plaquettes sources et de photomasques). Il supporte aussi bien l'imagerie étape et répétition (avec une image plein champ) que l'imagerie série de longueur variable (pour les images de champ de plus petite densité). Le masque aligneur est également capable d'un alignement réticulé de haute précision pour un positionnement précis des photomasques et des plaquettes. CANON PLA-501F dispose d'une large gamme de caractéristiques de sécurité, y compris le verrouillage automatique à vide, qui garantit la sécurité de l'opérateur pendant le processus d'alignement du masque. De plus, l'appareil est équipé de plusieurs interrupteurs d'urgence pour permettre à l'opérateur de couper l'alimentation du système en cas d'urgence. Le 501F dispose également d'une interface conviviale qui permet la création et la modification de fichiers de mise en page de masque. Le logiciel intuitif permet aux opérateurs de définir rapidement et facilement des paramètres de masque personnalisés, tels que la taille du champ, les niveaux d'exposition et la plage de focalisation. Cela permet d'optimiser les performances et d'augmenter la productivité. Dans l'ensemble, PLA 501F est un aligneur de masque de pointe qui offre une large gamme de caractéristiques qui en font un choix idéal pour l'industrie des semi-conducteurs. Il offre une précision et une répétabilité supérieures, ainsi qu'une variété de caractéristiques de sécurité. Le logiciel intuitif simplifie le fonctionnement et contribue à augmenter la productivité. En fin de compte, le 501F offre une solution optimisée pour les applications de photolithographie.