Occasion KARL SUSS / MICROTEC MJB-21 #9167004 à vendre en France

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ID: 9167004
Double sided mask aligner (2) 350 Watt lamp houses UV 400 Optics (2) Internal sensors: 65nm / 405nm SUSS Split-field bottom side microscope: (2) 150 Watts fiber optic microscope illuminators (2) 10x Objectives (2) 10x Eyepieces Proximity Soft contact capable Soft contact chuck (2) Mask holders Manuals.
KARL SUSS/MICROTEC MJB-21 est un aligneur de masque robuste et fiable qui est utilisé pour positionner et aligner avec précision des motifs de masques créés photolithographiquement sur des substrats pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il a une conception flexible qui peut accueillir des substrats de différentes tailles et formes. MICROTEC MJB-21 produit des images de haute qualité avec une résolution de 0,25 μ m et une précision de 2 μ m, permettant aux développeurs de concevoir des caractéristiques complexes pour le développement de dispositifs de haute performance. Le masque aligneur utilise un équipement d'objectif indépendant de 6 pouces et un étage ρ -z variable en continu pour contrôler avec précision l'alignement photo grâce à des mouvements précis des axes X, Y et Z. Un écran LCD haute résolution permet aux utilisateurs d'inspecter et de corriger l'alignement du motif du masque avant l'exposition. Le système comprend également un logiciel intégré qui dispose d'une fonction d'alignement avancée pour optimiser le placement de l'image. La construction robuste de KARL SUSS MJB 21 assure un stockage et un transport fiables de l'aligneur de masque pour les environnements de production, où la précision et la répétabilité à long terme sont essentielles. L'unité utilise une interface de panneau de contrôle stable pour permettre aux utilisateurs de sélectionner un profil d'exposition adapté au processus de fabrication de l'appareil, et les données d'image sont certifiées par un capteur CMOS. De plus, des mesures de sécurité sont mises en place via un couvercle qui empêche la machine à lentilles de se contaminer. MICROTEC MJB 21 est capable de produire des dimensions de dispositif < 10 μ m et une répétabilité meilleure que 1 μ m, ce qui le rend idéal pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs avancés.
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