Occasion SVG / PERKIN ELMER / ASML M 761 #9072094 à vendre en France

Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.

SVG / PERKIN ELMER / ASML M 761
Vendu
ID: 9072094
Taille de la plaquette: 6"
Mask aligner, 6" Wafer type: Semi flat Cassettes: Fluoroware Version dash -003 Auto-fine-alignment (AFA) Automatic variable magnification (AVM) Alarm and signal tower Auto-uniformity-slit Helium management system (HMS) Aim system Motorized carousel arm with enhanced control option Pick and place wafer transport system (PAL) Mini-mag strong shell Hardware options: Aim Computer Type: Pentium (Y2K Compliance) Power Supply: 230 Vac, 50 Hz, 1 Phase Fan-coil-unit (FCU): Inlet Air Automation: Optional.
SVG/PERKIN ELMER/ASML M 761 est un aligneur de masque qui est utilisé pour créer des photomasques précis et de haute précision pour la production de dispositifs microélectroniques. Il s'agit d'un équipement composé de plusieurs modules et composants : la table d'alignement du masque, le système d'exposition, une source lumineuse et une unité de commande multi-axes. La table d'alignement du masque est conçue pour fournir une plate-forme solide qui peut être ajustée avec précision pour le mouvement à la fois X-Y et sous-micromètre d'axe Z. Il fournit également un niveau de précision de placement de masque qui est essentiel pour produire un photomasque de haute qualité. La table d'alignement est capable de porter à la fois un masque et une plaquette pendant le processus d'alignement. La machine d'exposition se compose d'une optique mobile, d'une source lumineuse et d'une chambre scellée sous vide. L'optique de l'outil permet de projeter avec précision les motifs électroniques du masque sur la plaquette. La source lumineuse de SVG M 761 est une lampe Xénon ultra haute puissance, fournissant un éclairage lumineux pour l'exposition de modèles à petite échelle. La chambre scellée sous vide renferme l'optique des actifs d'exposition pour s'assurer que l'exposition n'est pas contaminée par des poussières ou des contaminants dans l'environnement. Le modèle de commande multi-axes permet à l'équipement d'alignement et d'exposition de se déplacer sans heurt dans toutes les directions. En outre, le système de contrôle comprend une interface informatique qui permet un fonctionnement facile et convivial de l'unité. La machine a la capacité de surveiller et de contrôler avec précision l'alignement masque-wafer à une précision de sous-micromètre résolution. La combinaison de ces caractéristiques fait de l'ASML M 761 un outil essentiel pour la fabrication de masques avancés utilisés dans la production de dispositifs microélectroniques. Il est capable de produire des photomasques de haute qualité avec un minimum de déchets et une efficacité maximale. PERKIN ELMER M 761 offre également un haut degré de personnalisation et d'adaptabilité. Il est compatible avec une variété de sources lumineuses, de temps d'exposition et de tailles de masques, ce qui le rend adapté à presque toutes les applications. Avec sa facilité d'utilisation et ses performances élevées, le M 761 est l'un des aligneurs de masque les plus fiables et éprouvés actuellement disponibles.
Il n'y a pas encore de critiques