Occasion LEITZ Ergolux #61327 à vendre en France

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ID: 61327
BF / DF Microscope Modulopak vertical illuminator 6"x 6" X-Y mechanical stage with glass plate Ergonomic tilting trinocular head 12V, 100W lamphouse with socket and bulb Pair of 10x WF eye pieces Motorized 5 place nose piece NPL 5x, 10x, 20x, 50x, 100x BF / DF objectives included.
LEITZ Ergolux Masque et Wafer Inspection Equipment est un système spécialisé utilisé pour inspecter et analyser les surfaces des masques et des wafers semi-conducteurs. Il intègre des algorithmes avancés d'adaptation des motifs et une technologie optique de pointe pour fournir un contrôle automatisé de la qualité et l'optimisation des processus, tout en fournissant une détection et une analyse complètes des défauts. Ergolux Mask and Wafer Inspection Unit comprend trois composantes ; une unité de commande de mouvement, un détecteur d'images et une machine de vision. L'unité de commande de mouvement est capable de contrôler avec précision le mouvement des composants pendant le processus d'inspection. Il peut également détecter de multiples champs de vision, permettant une couverture complète de la surface. Le détecteur d'images utilise un réseau unidimensionnel de détecteurs pour capturer simultanément des images à haute résolution pouvant atteindre 5 taches. Cela permet d'inspecter des motifs complexes et d'évaluer les défauts présents sur toute la surface de la plaquette. Le détecteur est également capable de mesurer des caractéristiques de surface telles que la structure des grains, la gravure isotrope et la morphologie de surface. L'outil de vision est un atout optique avancé qui utilise 4x optique de champ sombre pour pénétrer la surface de la plaquette et détecter les défauts potentiels. Il contient une quantité importante de données de référence précises utilisées pour l'identification et le calibrage des défauts. Ces données sont ensuite combinées avec la sortie du détecteur d'images pour compiler un enregistrement complet des caractéristiques de la plaquette. LEITZ Ergolux Masque et Wafer Inspection Model est un outil puissant et fiable pour l'inspection automatisée et l'optimisation des processus. Sa technologie optique de pointe et ses algorithmes innovants de traitement d'image permettent d'identifier et de caractériser avec précision les défauts des plaquettes. En repérant les défauts avec une précision inégalée, il assure l'intégrité et la fiabilité d'un produit avant sa sortie. Cela garantit que le produit final est de la plus haute qualité et répond à toutes les exigences de l'industrie.
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