Occasion VEECO Gen II #9107591 à vendre en France

ID: 9107591
MBE System Chamber with (8) source flange size, 2.75” MBE Components: RHEED System Sample manipulator with flux monitor QMS Head Glove box Pumps: Cryo pump Lon pump Turbo pump (2) Ion pumps: Main chamber (600 l/m) Buffer chamber (150 l/m) with (2) power supplies (2) Ti-Sublimation pumps With power supplies in the base of the main chamber Manipulator, 2" With servo motors for rotation Position setting Control unit Heater power supply Thermo-couple controller Beam flux Monitor and controller (2) Ion gauges: With (2) power supplies and controllers Main chamber Load lock Load lock for 6 wafers With heater for pre bake out with its power supply Temperature controller Electrical distribution panel Bake out panels with electrical connections Eight shutters with their control units Utility distribution box for water, air, N2 QMS, Power supply & display unit Operating system and computer (6) Sample holders Baffles head for main chamber turbo pump Gaskets silver coated copper gaskets Mixing manifold With (2) leak valves and tubing for gas interceptor Sulfur automatic valved cracker with: (2) Temperature zones 100 CC Quartz crucible (2) Power supplies (2) Temperature controllers Servo motor and controller and cable Oxygen plasma source with: RF Power supply Matching unit Leak valve Water flow meter and filter High temperature effusion cell with: Temperature zone up to: 2000°C 10 CC Crucible Power supply & temperature controller Low temperature effusion cell with: (2) Temperature zones (Base and tip) 25 CC PBN Crucible (2) Power supplies (2) Temperature controllers Gas injector with: Single heater Power supply Temperature controller and display Mixed manifold with two leak valves and tubing Options: QCM Integrated With machine for film thickness monitor RHEED System With 6" phosphorous screen and detector and camera E-beam gun with power supply and control unit.
L'équipement VARIAN/VEECO GEN II d'épitaxie par faisceau moléculaire (MBE) est un système de dépôt multi-utilisateurs très avancé pour le dopage et le dépôt d'une grande variété de matériaux semi-conducteurs. Cette unité MBE de pointe permet un contrôle précis de l'environnement de dépôt pour obtenir des couches de haute qualité avec une excellente reproductibilité. Cette machine permet le dépôt de couches de haute qualité et uniformes de matériaux semi-conducteurs tels que l'arséniure de gallium et l'arséniure d'indium gallium. Le procédé de dépôt est réalisé dans une chambre à vide, où le substrat à déposer est placé sur un support chauffant. Trois types de cellules effusives, fabriquées par César sont utilisées avec l'outil ; un arsenic, un gallium et une cellule d'indium. La combinaison de ces trois cellules donne à l'utilisateur la souplesse nécessaire pour créer des structures complexes et spécialisées en couches minces. La pression de base de l'actif MBE est maintenue à 4-6 x 10-7 mbar, et un modèle de verrouillage de charge séparé est utilisé pour réduire davantage la pression avant l'introduction dans la chambre à vide. En outre, l'équipement contient une unité d'oxydation thermique, un générateur d'ozone et deux lignes d'azote afin d'aider à la préparation de surface et à l'amélioration de la croissance. Le porte-substrat est chauffé électriquement et est contrôlé en température avec une série de thermocouples, permettant des températures uniformes sur toutes les zones de l'échantillon, assurant ainsi un contrôle de précision pour le dépôt de couches minces. Les températures prédéterminées vont de 200 K à 1 000 K. De plus, les équipements VEECO GEN II sont équipés d'un logiciel de pointe, qui offre une variété de fonctionnalités utiles pour contrôler le processus d'émission et de dépôt à la source. Le logiciel comprend un ensemble complet d'outils pour simuler des processus de croissance, définir des structures de couches et effectuer divers calculs de paramètres. En utilisant de puissantes capacités d'optimisation paramétrique, les utilisateurs peuvent également développer des simulations détaillées de leurs structures en couches minces, leur permettant de maximiser les performances de leurs échantillons. Il permet également aux utilisateurs de créer des interfaces graphiques afin de leur fournir un moyen pratique de mettre en place et de surveiller des expériences. Le système VARIAN GEN II MBE a été conçu pour répondre à un large éventail de besoins scientifiques et industriels, permettant aux utilisateurs de porter leurs applications de recherche au niveau supérieur. Cette unité avancée est capable de produire des résultats de haute qualité et offre la flexibilité d'allouer différents matériaux, atome par atome, afin de créer des structures complexes en couches minces.
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