Occasion VARIAN / VEECO GEN II #9205114 à vendre en France

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ID: 9205114
Taille de la plaquette: 2"
MBE System, 2" Sources: 2.75" Flange Wagon wheel prep chamber: Auger analysis Out-gassing: Auxiliary chamber Manual valve arsenic cracker Sources: Al, Ga1, Ga2, In Si & Be Dopant sources Functional rheed and QMS (3) Ion pumps Used for InAlGaAs Cryo pump and compressor Ti ball pump Bake out panels Load lock: Turbo pumps Scroll pumps.
VARIAN/VEECO GEN II est un équipement d'épitaxie par faisceau moléculaire (MBE) qui offre des performances et une polyvalence exceptionnelles pour le dépôt et la caractérisation de matériaux à l'échelle nanométrique. MBE utilise un environnement hautement contrôlé pour évaporer et déposer des couches minces de matériaux avec précision à l'échelle atomique, ce qui en fait la technique préférée pour fabriquer des structures optoélectroniques, magnétiques et semi-conductrices. Le système VEECO GEN II MBE comprend une chambre à vide ultra-haute et une série de sources de dépôt qui permettent la livraison de matériaux pour le dépôt en couches minces. La délivrance peut être réalisée par évaporation thermique ou par évaporation assistée par faisceau d'électrons, ainsi que par épitaxie par faisceau chimique (CBE) pour la croissance de solutions complexes avec plusieurs éléments. La densification à haut débit peut être obtenue grâce à des faisceaux d'ions à faible énergie, tandis que la pureté ultrapuissante peut être atteinte grâce à la pulvérisation par bombardement ionique. VARIAN GEN II est construit avec une configuration de source double pour supporter le dépôt de jusqu'à quatre systèmes de couches. L'unité est également suffisamment puissante pour accueillir jusqu'à six sources de dépôt, permettant le dépôt de structures compliquées. De plus, la machine comprend un outil automatisé de distribution de gaz, qui peut être utilisé pour ajouter différents gaz, tels que l'oxygène, l'azote et le carbone, pendant le processus de dépôt. Le puissant logiciel de contrôle du GEN II permet d'obtenir une uniformité et un contrôle extrêmement précis du processus de dépôt. Le logiciel de contrôle peut programmer des paramètres exacts pour chaque processus, permettant un contrôle complet des nanostructures complexes. En outre, il est équipé d'une gamme de capacités de caractérisation in situ avancées. Ceci comprend un spectromètre optique et un détecteur d'efficacité quantique qui peuvent être utilisés pour mesurer l'épaisseur, la composition et les propriétés du matériau déposé. VARIAN/VEECO GEN II est un atout MBE avancé qui est idéal pour des applications avancées telles que la recherche et le développement en optoélectronique, nanoélectronique, nanophotonique, et d'autres domaines. Ce modèle offre des performances et une polyvalence exceptionnelles, permettant la fabrication de nanostructures de précision avec une précision à l'échelle atomique.
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