Occasion ADIXEN ASD 2004 #9081691 à vendre en France

ADIXEN ASD 2004 est un équipement de photorésistance conçu pour la modélisation de précision des circuits électroniques. Le système est idéal pour le prototypage des appareils électroniques à plus petite échelle, tels que les smartphones et autres appareils numériques, ainsi que pour la production à plus grande échelle. L'unité se compose d'une chambre de procédé principale, d'une station d'étape d'échantillonnage, d'une station de moniteur et d'une chambre de traitement de photorésist. La chambre de procédé principale est séparée en deux unités sous vide. Le poste d'échantillonnage se trouve à l'intérieur de l'une des unités et est conçu pour accueillir jusqu'à six plaquettes de 4 "par lots. Il contient plusieurs porte-échantillons, perpendiculaires et parallèles à la chambre pour des résultats de processus uniformes. Les plaquettes sont maintenues en place avec du vide et des pinces et peuvent être chauffées jusqu'à 200 ° C pour soutenir une gamme avancée de recettes de processus. L'étape d'échantillonnage peut être ajustée pour reproduire tout basculement à partir de surfaces non uniformes. La chambre de traitement de la résine photosensible se trouve dans l'autre unité sous vide et est utilisée pour l'application de matériaux photosensibles par spin-coat. La chambre intérieure de la machine est équipée d'un outil de gestion du fluide et d'un spin-coater à grande vitesse, permettant des spin-coats de 10-8000rpm. Il fournit également un contrôle intégré de la température pour maintenir un profil environnemental précis et reproductible. L'actif est également équipé d'un poste de surveillance situé dans le coin supérieur droit du modèle. Le poste de surveillance est conçu pour permettre le réglage sur l'équipement de variables contrôlées telles que le vide, la température et la vitesse. Il fournit également un port USB pour l'intégration avec un ordinateur distant et une interface utilisateur graphique. ASD 2004 est un impressionnant système photorésist, offrant toutes les caractéristiques requises d'une application haute performance. Il est conçu pour traiter une variété de matériaux photorésistants et de recettes de processus, avec la capacité de fournir des images haute résolution et une couverture uniforme des substrats. L'unité est facile à utiliser et offre une excellente répétabilité, précision et précision des performances. Sa conception avancée et ses caractéristiques le rendent parfait pour la réalisation de précision d'une large gamme d'appareils électroniques pour le prototypage et la production.