Occasion DNS / DAINIPPON SK-2000 #118481 à vendre en France

DNS/DAINIPPON SK-2000 est un équipement de photorésistance haute performance développé pour le traitement de motifs micro-fins. Le système utilise une unité d'imagerie de précision unique, avancée, conçue pour fournir un contrôle parfait de l'enregistrement et de l'exposition, ainsi que pour permettre l'utilisation d'une large gamme de matériaux de résistance photo. Pour une exposition optimale et une grande flexibilité, des outils de contact et de projection sont disponibles. L'outil avancé d'exposition au contact produit un enregistrement d'image de très haute qualité, offrant une exposition parfaitement uniforme sur toute la surface du photomasque. L'outil d'exposition à la projection est conçu pour réduire la distorsion des dispositifs fins par l'application d'une machine optique de haute précision, ce qui finit par augmenter la précision d'exposition, la linéarité et le rendement. L'outil offre également des capacités avancées telles que la résolution des sous-microns, l'uniformité minimale d'exposition de 0,15 micron et les fonctions de contrôle de la stabilité de l'exposition. La résolution du sous-micron garantit que les fonctions de lithographie extrêmement petites peuvent être réalisées avec une précision et un détail excellents. Les dispositifs de contrôle de la stabilité de l'exposition permettent des ajustements précis non seulement du niveau d'exposition mais aussi de la durée, qui sont essentiels pour obtenir des résultats cohérents. L'atout se vante d'un mode à grande vitesse pour l'exposition à ultra-haute température, l'augmentation du débit et la réduction du temps de processus. Une autre caractéristique de ce modèle est sa capacité à commuter les longueurs d'onde d'exposition à partir d'une seule source, permettant d'utiliser des sensibilités multiples pour différents types d'exposition. À propos de l'équipement photorésist DNS SK2000, la conception offre une forte robustesse à la variation de température et réduit considérablement les particules, augmentant la fiabilité globale de l'exposition. Dans l'ensemble, ce système offre une solution optimale pour les applications de lithographie nécessitant des motifs ultra-fins.