Occasion VERTEQ 1600-44 #5954 à vendre en France

VERTEQ 1600-44
Fabricant
VERTEQ
Modèle
1600-44
ID: 5954
SRD's.
VERTEQ 1600-44 est un équipement de photorésistance de pointe conçu pour le développement et la fabrication de circuits intégrés et d'autres exigences d'application avancées. C'est une arme de pointe dans l'armamentarium de construction d'outils, car elle offre un haut niveau de contrôle à grains fins lors de la création et du traitement de couches de résines photosensibles sur des substrats de plaquettes. 1600-44 est un système entièrement automatisé capable de créer des couches de photorésist de haute qualité sur des substrats d'épaisseurs allant de 0,1 um (micron) à 250 um. L'unité se compose d'une machine spéciale de distribution de résine photosensible, de systèmes de prétraitement et d'exposition, et d'un ensemble spin-coater. Cet outil permet un processus rapide et efficace de traitement et de manutention des plaquettes. L'actif de prétraitement prépare le substrat de la plaquette avec une solution spéciale de tensioactif/nettoyage, suivi d'un ensemble spin-coater qui enrobe le substrat de la plaquette avec la solution de résine photosensible. Diverses techniques d'exposition sont utilisées pour la couche de photorésist telles que l'interférométrie, l'alignement des paliers et la lithographie laser. Le modèle d'exposition de VERTEQ 1600-44 est capable de contrôler l'intensité lumineuse et l'interférométrie avec une grande précision. L'équipement post-exposition de 1600-44 permet un développement rapide de la résine photosensible. La résine photosensible qui est enrobée sur le substrat de la plaquette est traitée chimiquement et développée par une variété de procédés uniques de post-exposition, y compris l'exposition à la lumière et la gravure à sec. Cela facilite le processus de création de motifs complexes et d'éléments de conception sur le substrat de la plaquette. VERTEQ 1600-44 comprend également une gamme d'options de système de contrôle de processus, permettant une surveillance et une analyse précises à chaque étape du processus photorésist. Les paramètres optiques, environnementaux et cinétiques peuvent être contrôlés et ajustés pour optimiser les performances de l'appareil. La combinaison d'une automatisation avancée, d'une surveillance et d'une analyse précises et de couches photorésistantes de haute qualité font de la machine 1600-44 un atout puissant dans la production de circuits intégrés et d'autres applications photolithographiques.
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