Occasion JIPELEC Jetfirst #9182654 à vendre en France

ID: 9182654
Taille de la plaquette: 4"
Rapid Thermal Processor (RTP), 4" Ramp rate: 70C/sec Maximum allowable temp: 1100C Thermocouple and outer edge, 4" Gases: N2, O2, H2/N2 (10% forming gas) Chamber: Vacuum below 1 Torr.
JIPELEC Jetfirst est un équipement de traitement thermique de pointe conçu pour répondre aux besoins d'un large éventail d'applications. Ce système offre un traitement thermique rapide des plaquettes, des substrats et des dispositifs. L'unité offre à l'utilisateur une combinaison de technologie de pointe, de précision extrême et de débit élevé qui fait de cette machine un choix idéal pour le traitement thermique rapide des composants. Jetfirst est équipé de deux chambres à vide haute parallèle, chacune d'une capacité de cinq pouces. Chacune des deux chambres dispose d'un panneau de contrôle indépendant et de paramètres multiples, qui permettent aux utilisateurs d'ajuster rapidement et avec précision les paramètres du processus pour répondre aux exigences spécifiques du processus. De plus, les deux chambres ont une zone de four dédiée dans chaque chambre. JIPELEC Jetfirst dispose également d'un outil optique avancé, doté d'un microscope optique avancé, capable de fournir un champ de vision complet pour inspecter et caractériser les processus thermiques sur les plaquettes et les substrats. Le microscope a également une capacité de zoom pour une résolution accrue et des mesures thermiques plus précises. Jetfirst dispose également d'une chambre à atmosphère réglable pour améliorer l'uniformité thermique entre les plaquettes et les substrats. Cette caractéristique permet une précision accrue lors de la caractérisation des processus thermiques sur les plaquettes et les substrats. JIPELEC Jetfirst comprend plusieurs fonctionnalités pour assurer l'uniformité et la cohérence optimales des processus. L'actif dispose d'un modèle d'automatisation breveté qui permet un contrôle précis des paramètres du processus et fournit un environnement d'exploitation fiable. Jetfirst dispose en outre de plusieurs systèmes d'isolation thermique pour assurer une répartition uniforme de la température entre les plaquettes et les substrats. JIPELEC Jetfirst offre un environnement de processus thermique fiable, ainsi qu'un accès facile et des options de contrôle polyvalentes pour des applications variées. L'équipement peut être programmé pour gérer diverses tâches telles que le dépôt de couches minces, le recuit thermique rapide et la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Jetfirst est en outre capable d'exécuter plusieurs processus en parallèle, augmentant ainsi la capacité de débit globale du système. Toutes les fonctionnalités offertes par JIPELEC Jetfirst en font un choix idéal pour le traitement thermique à haute vitesse des wafers, substrats et appareils. Il rend le processus technique des conditions thermiques beaucoup plus facile et plus rapide que les méthodes classiques, faisant de cette unité un excellent choix pour une variété d'applications.
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