Occasion AGS MPS-150-RIE #9078689 à vendre en France

AGS MPS-150-RIE est un équipement de recherche et de résonance cyclotron électronique industriel de haute qualité conçu pour répondre aux besoins de la recherche et des applications industrielles actuelles. Ce modèle est particulièrement adapté aux procédés de gravure et de dépôt en couches minces qui nécessitent une qualité et une précision élevées tels que le traitement des semi-conducteurs, les MEMS et les PDF. MPS-150-RIE a diverses caractéristiques qui le rendent adapté à la recherche moderne et les applications industrielles. Le plasma est généré à l'aide d'une source ECR à haute température, qui est un outil très efficace et très précis pour contrôler les processus dans des conditions de puissance précises. En outre, la source ECR peut fonctionner dans divers modes d'obturation, tels que le mode impulsion et rafale, permettant un contrôle précis des processus de gravure et un contrôle précis des épaisseurs de dépôt. La source ECR a également la capacité de fournir les ions requis à la surface pour une variété de paramètres de processus, permettant une répartition uniforme sur la surface du substrat. Le système de contrôle de flux utilise 12 canaux de gaz indépendants et est équipé d'un mélangeur de gaz hautement automatisé, ce qui permet de contrôler facilement la concentration de gaz dans la chambre de procédé. L'unité est également équipée de systèmes de mesure de la température et de la pression pour assurer des conditions de fonctionnement optimales. En plus de sa source ECR de haute précision, AGS MPS-150-RIE est également équipé d'une grande variété d'équipements périphériques pour améliorer encore ses capacités. Cet équipement périphérique comprend des outils sophistiqués de surveillance des processus, des outils avancés de mesure des caractéristiques du plasma et une gamme d'équipements de manutention sous vide tels que des serrures de charge et de la robotique. La machine est construite avec une conception structurelle très robuste et fiable et est capable de gérer un large éventail de paramètres de processus. L'outil de confinement du plasma assure une répartition uniforme du plasma dans l'enceinte pour assurer une gravure uniforme. L'actif de gravure est également équipé d'un modèle de détection automatique du point d'extrémité qui permet à l'équipement d'arrêter le processus à un point prédéterminé, assurant des résultats de gravure répétables. MPS-150-RIE est un équipement idéal pour la recherche et les applications industrielles en raison de sa source ECR de haute précision, de sa conception fiable et robuste, et de sa large gamme d'équipements périphériques. Ce modèle offre les caractéristiques et les performances qui permettent aux utilisateurs de générer des processus uniformes et reproductibles avec une productivité et une précision exceptionnelles.