Occasion AIXTRON 2800 G4 HT #9195750 à vendre en France

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Fabricant
AIXTRON
Modèle
2800 G4 HT
ID: 9195750
Style Vintage: 2007
MOCVD System 42"x 2", (6) Satellite Loaded for each run: 7"x 2" per satellite Gas lines: 3 NH3, 1 SiH4 LAUDA: RM 25 S/G, RM 6 S/K EPISON4 Installed MO Lines: TMG TMA (2) Cp2Mg (2) Indium (2) TEG MO Materials: TMG TMA Mg In TEG SiH4 NH3 Measure the reflectance & temperature: EPITUNE III Process pump: EBARA A25 WKL230 Chiller included External scrubber HORIBA STEC HITEC Gas: GaN 2007 vintage.
AIXTRON 2800 G4 HT est un outil de dépôt réactif conçu pour la production rapide et efficace de composants et dispositifs optoélectroniques de haute performance. Il s'agit d'un équipement compact et homogène à 3 axes transversal (HT) basé sur une structure de pont de 4 pouces ou 8 pouces, avec 32 creusets, 4 champs magnétiques et 4 bobines de proximité. Ce système de dépôt sophistiqué offre une excellente uniformité et stabilité sur tous les précurseurs, ce qui en fait un outil idéal pour produire des échantillons de haute qualité. Le design avancé d'AIXTRON 2800G4 HT le rend idéal pour le dépôt de couches ultra-minces. L'unité est capable d'obtenir des épaisseurs de couches minces très faibles lors des processus de dépôt et peut déposer des couches aussi minces que quelques dizaines de nanomètres (nm). Ce procédé de dépôt en couches minces est également capable de former des hétérostructures monocouches et multicouches avec de fortes propriétés d'interface couche à couche. Les systèmes avancés contrôlés par ordinateur utilisés en 2800 G4 HT sont capables de contrôler jusqu'à 32 sources simultanément et fournissent également une rampe de température jusqu'à 1300 ° C avec une résolution de 0.1K. Cela permet d'assurer un contrôle de haute précision et la précision des processus de dépôt. Le logiciel embarqué comprend également une gamme de programmes avancés qui sont en mesure de simuler et d'optimiser les processus de dépôt ainsi que d'aider à surveiller les progrès et d'optimiser la configuration. La conception de la machine est encore améliorée par le champ magnétique inclus dans le réacteur. Ce champ magnétique auto-réglable permet de prévenir toute contamination de surface et de mieux contrôler la distribution des particules dans la chambre. Les bobines de proximité réduisent également le temps total de dépôt et maximisent le débit du substrat en assurant à la fois un chauffage et un refroidissement uniformes du substrat. Globalement, 2800G4 HT est un outil polyvalent de dépôt de résistance capable de fournir des composants et des dispositifs optoélectroniques de haute précision. En combinant ses caractéristiques de conception avancées, son contrôle informatique et son excellente uniformité couche à couche, AIXTRON 2800 G4 HT est un outil idéal pour des processus de dépôt efficaces et uniformes.
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