Occasion AIXTRON Tricent #9199207 à vendre en France

Fabricant
AIXTRON
Modèle
Tricent
ID: 9199207
Style Vintage: 2005
CVD System Cluster tool for wafer Handling system: BROOKS Gemini GX6000 High-k dielectric layers AVD System: Metallic nitride 2005 vintage.
AIXTRON Tricent est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur à pression atmosphérique (AP-CVD) développé par AIXTRON. Cet outil est conçu pour fournir aux utilisateurs une plate-forme fiable et performante pour les nanomatériaux et le dépôt de couches minces. Contrairement à d'autres systèmes CVD, Tricent dispose d'une conception avancée en ligne qui le rend facile à intégrer avec d'autres processus ou équipements. L'équipement comprend trois composants principaux - le support froid, le support chaud et la buse - qui sont conçus pour offrir une large gamme de capacités de processus et d'uniformité. Le montage à froid d'AIXTRON Tricent est un système de chauffage à trois zones robuste et fiable qui assure une répartition uniforme de la température sur l'ensemble du substrat. En outre, le support froid dispose également de mécanismes avancés de contrôle des gaz et de purge, qui aident à obtenir un contrôle supérieur de la température et de la stabilité du procédé. La monture à chaud de Tricent dispose d'un design avancé arc-bouchon, qui permet aux utilisateurs de déposer des matériaux avec le rapport d'aspect le plus élevé possible. De plus, le support chaud comporte une unité d'alimentation en gaz optimisée, qui assure le débit optimal de gaz tout au long du cycle de traitement. Cette machine est conçue pour fournir une structure homogène et une parfaite adhérence des couches déposées. Pour assurer un dépôt uniforme en couches minces, AIXTRON Tricent est équipé d'une buse très précise. Cette buse est conçue pour un fonctionnement à long terme et assure une émission de matière stable et reproductible. De plus, la buse est capable de réaliser des gouttelettes d'une taille précise et d'une vitesse définie, ce qui permet d'assurer un dépôt de film uniforme sur le substrat. Dans l'ensemble, Tricent est une plateforme incroyablement puissante et polyvalente pour le dépôt de nanomatériaux et de films minces. Il est capable de produire des couches uniformément épaisses et de haute qualité avec une excellente adhérence et précision. En outre, sa conception avancée en ligne le rend facile à intégrer avec d'autres processus et équipements.
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