Occasion AJA ATC Orion 5 UHV #9049698 à vendre en France

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ID: 9049698
Style Vintage: 2006
Sputter coater Currently configured for manual operation, fully automatic capable Substrate bias and rotation (3) Independent sputter guns (2) DC Power supplies, 500W RF Power supply, 300W Substrate size: < 5.75" diameter (sputter-up) with z-axis shift (2") Rotation to 20 rpm Heating up to 800ºC with RF bias capability to 50 W RF Sputter guns: (3) 2" O.D. Targets With integrated shutters for RF or DC (metallics/dielectrics) sputtering Confocal, sputter-up arrangement Capable of being upgraded to (5) cathodes Power supplies: (2) ADVANCED ENERGY 500 W DC supplies 1300 W Seren RF generator with manual impedance match and selector switch Substrate heating: PID Temperature programmable controller (2) 1000 W Quartz lamps for heating inside water-cooled reflector box Vacuum generation: PFEIFFER 500 L/sec turbo pump With magnetic bearing on vac side and ceramic bearing on motor side Backed by ADIXEN ACP15 dry rotary lobe pump: Oil-free deposition system Sputtered: metals and metal oxides: Copper Precious metals Nickel Iron Vanadium Molybdenum Aluminum Alumina Carbon / Graphite Currently de-installed and stored in a cleanroom 2006 vintage.
AJA ATC Orion 5 UHV est un équipement de pulvérisation utilisé dans le traitement des matériaux avec un haut niveau de précision et de précision. Ce système avancé utilise une puissante unité à vide élevé, capable de maintenir une pression de vide maximale de 6.5x10-7 Torr. Il dispose d'une chambre de pulvérisation à 5 cibles, avec 8 anodes chauffées à la masse, permettant différentes configurations de pulvérisation, y compris des opérations de pulvérisation à haute puissance et à faible puissance. La machine comprend également une conception modulaire, avec une distance cible-substrat réglable, et une fonction de nettoyage plasma à haut débit automatisé. En plus des progrès de pulvérisation, ATC Orion 5 UHV outil dispose de contrôle de la température pour les substrats. Cet actif supporte une plage de chauffage active jusqu'à 500 ° C, permettant un contrôle précis de la température de la surface du substrat. Cette caractéristique permet un meilleur contrôle de la morphologie et de la composition du film, car le traitement thermique peut influencer drastiquement les propriétés des composants métallisés. AJA ATC Orion 5 UHV offre un contrôle précis du mouvement pour permettre un dépôt précis du revêtement sans contaminer la surface cible. Le contrôle de mouvement permet une programmation flexible, avec des motifs de balayage linéaires et hélicoïdaux, pour assurer une vitesse de dépôt du film égale. Il dispose également d'un modèle de balayage d'oscillation, qui balaie précisément la cible en oscillant dans le plan X-Y pour réduire les effets de l'inter-diffusion de la cible. Enfin, ATC Orion 5 UHV dispose d'un équipement d'automatisation avancé pour garantir la précision et la répétabilité dans les paramètres du processus de pulvérisation. Ce système comprend un fonctionnement contrôlé par ordinateur, une capacité de séquençage multi-programmes et des outils de programmation graphique conviviaux pour un fonctionnement facile. Il suit également les paramètres et paramètres de pulvérisation pour assurer la répétabilité et la reproductibilité des résultats de revêtement. Dans l'ensemble, AJA ATC Orion 5 UHV est une unité de pulvérisation puissante et très précise, idéale pour effectuer des dépôts en couches minces. Sa plage de chauffe active et son contrôle précis du mouvement permettent un meilleur contrôle du dépôt des matériaux. Ses fonctions automatisées optimisent l'efficacité et réduisent le temps de traitement des matériaux. Avec ces fonctionnalités, l'ATC Orion 5 UHV est la solution idéale pour de nombreuses applications de couches minces.
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