Occasion DISCO DCS 141 #9148247 à vendre en France

Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.

ID: 9148247
Wafer cleaning system, 8" Applicable tape frame size: 2"-8" Table rotating speed: 0-3000 min-1 (RPM) Spinner discharge pressure: 2.0-12.0 (Mpa) Air: 0.5 Mpa 216 L/min N2: 0.5 Mpa 54 L/min Water: 0.1 Mpa 0.1 L/min Power: 100 V, Single phase, 1.5 KVa.
DISCO DCS 141 est un laveur de wafer et de masque de pointe conçu pour les procédés de lavage par voie humide dans l'industrie des semi-conducteurs. Avec son équipement sophistiqué d'authentification RFID et d'identification utilisateur, le système est capable d'empêcher tout accès ou activité non autorisé. Il peut également enregistrer et stocker les événements clés et l'activité de l'opérateur. DISCO DCS141 est équipé d'une unité centrifuge à trois vitesses pour un lavage rapide et précis. Sa technologie avancée d'épuration garantit une élimination des particules supérieure dans différents modes : organique, non organique et antistatique. Son interface tactile confortable permet un fonctionnement facile et le changement des opérations en quelques minutes. La machine est équipée de plusieurs systèmes d'éclairage LED, y compris une LED violette profonde qui aurait la désinfection la plus élevée possible dans le processus d'épuration des plaquettes/masques. Cela permet de minimiser le risque de contamination, tandis que le sèche-linge élimine rapidement l'humidité de la croûte des plaquettes. Le séchage optimisé permet également de maximiser le débit du procédé, avec une efficacité de lavage élevée pour une élimination maximale des particules. Il assure également une homogénéité de température élevée pour des performances améliorées. En outre, il a une faible utilisation de l'eau et un fonctionnement très stable pour des performances durables. Le DCS 141 est conçu pour la sécurité. Il dispose de systèmes de protection contre la température, d'un détecteur de niveau d'eau, de capteurs multiples et d'un outil de contrôle de mouvement pour une sécurité maximale, même avec des plaquettes lourdes. Il dispose également d'un atout anti-refoulement qui empêche le rejet illégal de wafer produits chimiques. Cet épurateur avancé de wafer et de masque dispose également d'une variété d'autres fonctionnalités avancées telles que le fonctionnement sans vibrations et un modèle de contrôle PID pour une grande efficacité même à des opérations à grande vitesse. Il est également doté d'une conception robuste en acier inoxydable et d'un couvercle bien scellé éliminant le risque de contamination. Dans l'ensemble, DCS141 est un choix fiable pour les procédés d'épuration par voie humide dans l'industrie des semi-conducteurs offrant des performances et une sécurité supérieures. Équipé d'une variété de fonctionnalités avancées, ce wafer and mask scrubber est le choix idéal pour des opérations très fiables et efficaces.
Il n'y a pas encore de critiques