Occasion ASML AT-850 #9193537 à vendre en France

ASML AT-850 est un pas de plaquette de haute précision qui est utilisé à toutes les étapes du processus de fabrication des dispositifs semi-conducteurs. Il est conçu pour fournir une plate-forme complète qui permet de réaliser des essais précis et sur produit. L'équipement ASML AT 850 utilise une combinaison de technologies de pointe, y compris la lithographie, le positionnement des réticules, l'alignement des substrats, le chauffage et le refroidissement, et le mouvement des étages pour créer des structures très complexes sur les substrats semi-conducteurs. Le système de lithographie à base de silicium du stepper est capable d'une résolution impressionnante de 5nm, permettant la réplication de motifs de circuits complexes. L'unité est capable d'exposer avec précision et d'imager des motifs à travers quatre réticules en un seul repère d'alignement, ce qui en fait un excellent choix pour une production à haut volume. La machine à mouvement d'étage de l'étage dispose de moteurs avancés avec une résolution de positionnement de 2,5nm, permettant au dispositif de positionner précisément le substrat sous le réticule avant l'exposition. Un actionneur électro-thermique est utilisé pour s'assurer que la température du substrat est uniforme et stable pendant le processus d'exposition. Cette stabilisation thermique permet de minimiser les erreurs causées par les variations de température dans les performances du pas de la plaquette. L'outil de positionnement réfléchissant du réticule maintient l'orientation exacte du réticule, assurant ainsi la projection précise de l'image d'éclairage sur le substrat. Le stepper est également équipé d'un atout d'alignement de motif qui assure que la position de l'étage est exactement alignée avec le réticule à tout moment. Enfin, les systèmes de chauffage et de refroidissement sont des composants essentiels de l'étage de la plaquette. Un modèle de chauffage de haute précision est utilisé pour contrôler la température du substrat pendant le processus de fabrication, et un équipement de refroidissement amène rapidement le substrat à une température acceptable après le processus d'exposition. Dans l'ensemble, AT-850 est un pas de plaquette avancé qui offre une précision exceptionnelle et des capacités de production de haut volume. La combinaison de son positionnement précis des réticules, de l'alignement des substrats, de la gestion thermique et du mouvement des étages en fait un excellent choix pour la création de structures très complexes sur les matériaux semi-conducteurs.