Occasion ASML PAS 2500 / 40 #9198547 à vendre en France

ASML PAS 2500/40 est un équipement de lithographie avancé utilisé dans les procédés de fabrication de semi-conducteurs. Basé sur une lithographie optique ultraviolette profonde, le système est conçu pour le processus de fabrication de la puce 130nm, ce qui le rend idéal pour les circuits intégrés de faible puissance et de haute performance. L'unité utilise un seul scanner de grande surface pour exposer une couche de photo-résiste (PR) sur la plaquette, produisant des micro-structures en une seule étape. L'optique d'imagerie du stepper comprend une machine d'alignement, une lentille à ouverture numérique élevée (NA), un outil d'éclairage à haute sensibilité et une lentille d'imagerie double face. Cette combinaison permet un contrôle précis du placement et de l'uniformité de l'image. De plus, l'actif dispose d'un modèle unique de reconnaissance de superposition (ORS), qui permet une grande précision d'alignement sans nécessité de culture manuelle ou de balayage. Au cœur, l'ASML PAS 2500/40 utilise un étage à trois axes pour se déplacer par paliers sous-nanométriques, ce qui permet d'obtenir la plus grande précision dans l'alignement lithographique. Cette technologie de pointe combine trois étages moteurs linéaires - X, Y et Theta (angulaire) - pour contrôler l'alignement précis de la plaquette, ce qui conduit à des matrices alignées avec précision. PAS 2500/40 dispose également d'un équipement intégré de contrôle atmosphérique (AC), qui maintient un environnement précis et propre dans la chambre pas à pas. Cet environnement contrôlé permet d'améliorer les performances d'imagerie, de prolonger la durée de vie et d'augmenter l'uniformité et le débit des appareils. Le système fournit également des capacités précises de recouvrement optique, d'alignement en boucle fermée et de contrôle des processus, ainsi qu'une uniformité de champ supérieure. PAS 2500/40 est une unité de lithographie avancée et conviviale conçue pour être utilisée dans le processus de fabrication des puces de 130 nm. La machine offre des performances d'imagerie supérieures, des capacités de superposition optique précises, une durée de vie prolongée et un contrôle de mouvement de haute précision. L'ASML PAS 2500/40, qui intègre des technologies de pointe telles qu'une lentille à NA élevé, un outil d'éclairage à haute sensibilité et un atout de contrôle atmosphérique, fournit une précision et une précision inégalées.